青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
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概要
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青色発光EL素子の色純度の向上を目的として、SrS:Cuを作製した。作製にはホットウォールエピタキシー装置と電子線蒸着装置を用いた。予備堆積層の作製とアニールの高温化により結晶性が非常に向上した。PLスペクトルでは発光中心であるCuによる発光強度が弱いことが分かった。
- 2003-05-09
著者
-
藤安 洋
静岡大
-
以西 雅章
静岡大学大学院工学研究科
-
藤安 洋
静岡大 工
-
藤安 洋
静岡大学工学部
-
藤安 洋
静岡大学大学院電子科学研究科
-
藤安 洋小
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科
-
笠井 崇史
静岡大学大学院理工学研究科、工学部
-
増田 健一郎
静岡大学大学院 理工学研究科
-
深谷 健太郎
静岡大学大学院 理工学研究科
-
深谷 健太郎
静岡大学工学部
-
増田 健一郎
静岡大学工学部
-
岡村 正吾
静岡大学大学院 理工学研究科、工学部
-
岡村 正吾
静岡大学大学院理工学研究科、工学部
-
以西 雅章
静岡大学大学院 工学研究科
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