RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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概要
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TiO_2薄膜は、近紫外光の照射により、有機物分解特性や親水特性を示すことから、光触媒材料として注目されている。近年、可視光応答化の研究が盛んに行われており、今後様々な基材に担持されることが予想される。しかし、既存の生成方法の多くは熱処理を必要としたり、付着力が弱いという問題がある。本研究では、RFマグネトロンスパッタリング法により、光触媒特性を有するTiO_2薄膜を非加熱基板上に生成することを目的とした。ターゲットにはTiO_2粉末を使用し、雰囲気ガスはArのみとした。基板加熱の有無による結晶構造の変化や、表面形態の変化の観察を行った結果、非加熱基板上にアナターゼ型TiO_2薄膜が生成できることを確認できた。
- 2008-05-08
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