RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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概要
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Li二次電池の正極物質として、Mn酸化物が注目されている。この物質は材料費が安く、環境への影響も少ないという利点を持つ。本研究はスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成を目指した。LiMn_2O_4粉末をターゲット物質に使用し反応性スパッタリングを行った。反応性スパッタリングは,スパッタガスであるArにO_2ガスを混合し,酸素欠損を補い,科学量論的組成を持つ薄膜を作成する目的で使用した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-05-08
著者
-
細川 貴之
静岡大学工学研究科
-
中村 功一
静岡大学工学研究科
-
細江 俊介
静岡大学工学部
-
酒井 里
静岡大学工学部
-
以西 雅章
静岡大学工学部
-
以西 雅章
静岡大 工
-
以西 雅章
静岡大学工学研究科
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