RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜生成への石英円筒の効果(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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概要
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RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn_2O_4薄膜を生成している。ターゲットには、LiMn_2O_4粉末を用い、連続して複数回のスパッタを行った。本研究は、反応性スパッタリング中での、ターゲットの酸化防止法として考案された。ターゲットとシャッター間に石英円筒を設置し、蒸着速度の変化、薄膜結晶性を調べた。石英円筒を使用することにより蒸着速度が増加した。また、XRD測定を行った結果、30分の蒸着でLiMn_2O_4薄膜が生成できた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-05-07
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