スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価(光材料・デバイス,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))

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概要

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• RFマグネトロンスパッタリング法により,Li二次電池正極用のLiMn_2O_4薄膜を生成している.本研究では,様々な条件で薄膜を生成し,薄膜の膜厚の測定,X線回折による生成物質の同定,走査電子顕微鏡による表面の観察を行い,それぞれの薄膜を比較して生成条件による薄膜の変化を評価した.その結果,Ar:O_2=3:1が,組成のずれが小さい事が分かった.この生成条件で薄膜を生成し,充放電測定を行った結果,放電容量は小さいがリチウム二次電池の正極として機能はしていることが分かった.

• 2012-05-10

著者

• 以西 雅章

  静岡大学工学部

• 中村 光宏

  静岡大学工学研究科

• 丹羽 彬夫

  静岡大学工学研究科

• 野口 貴史

  静岡大学工学研究科

• 以西 雅章

  静岡大学工学研究科

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