中村 光宏 | 静岡大学工学研究科

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概要

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• 同名の論文著者
• 静岡大学工学研究科の論文著者

関連著者

• 中村 光宏

  静岡大学工学研究科

• 以西 雅章

  静岡大学工学部

• 以西 雅章

  静岡大学工学研究科

• 丹羽 彬夫

  静岡大学工学研究科

• 以西 雅章

  静岡大学工学部電気電子工学科

• 野口 貴史

  静岡大学工学研究科

著作論文

• RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成条件の調査 (シリコン材料・デバイス)
• RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成条件の調査 (電子デバイス)
• RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成条件の調査(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成条件の調査(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成条件の調査(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価(センサ,撮像,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価(センサ,撮像,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価(センサ,撮像,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• スパッタリング法によるLiMnO薄膜の生成と評価 (電子デバイス)
• スパッタリング法によるLiMnO薄膜の生成と評価 (シリコン材料・デバイス)
• スパッタリング法によるLiMnO薄膜の生成と評価 (電子部品・材料)
• スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価(光材料・デバイス,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価(光材料・デバイス,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
• スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価(光材料・デバイス,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))

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