6a-B-19 ホット・ウォール・エピタキシー法による化合物半導体薄膜の作製とその光物性III
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1989-09-12
著者
-
相馬 出
東北大科研
-
岡 泰夫
東北大科研
-
野間 空
フジ精機(株)
-
泉沢 久美恵
東北大科研
-
佐藤 秀樹
東北大科研
-
藤安 洋
静岡大
-
藤安 洋
静岡大学大学院電子科学研究科・静岡大学工学部電子工学科
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