桑原 弘 | 静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
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概要
関連著者
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桑原 弘
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
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立岡 浩一
静岡大学工学部
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立岡 浩一
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
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畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
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桑原 弘
静岡大学工学部
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三宅 亜紀
静岡大学電子科学研究科
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青木 徹
静岡大学大学院電子科学研究科
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Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
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Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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小南 裕子
静岡大学大学院電子科学研究科
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川角 明人
静岡大学電子工学研究所
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小南 裕子
静岡大学大学院工学研究科
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中村 高遠
静岡大学工学部
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桑原 弘
静岡大学大学院電子科学研究科
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桑原 弘
静岡大学 電子科学研究科
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立岡 浩一
静大工
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桑原 弘
静大工
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伊藤 達也
静岡大学電子工学研究所
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Nakamura Tomohiko
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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森 晋也
静岡大学電子工学研究所
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Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
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Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
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中野 文樹
静岡大学 電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学
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畑中 義式
静岡大
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中西 洋一郎
静岡大学 電子科学研究科
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畑中 義式
静岡大学 電子科学研究科
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青木 徹
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大
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立岡 浩一
静岡大学 電子科学研究科
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桑原 弘
静岡大学電子科学研究科
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上倉 直喜
静岡大学電子工学研究所
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中野 文樹
静岡大学電子工学研究所
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芝 文広
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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中村 高遠
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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立岡 浩一
静岡大学電子工学研究所
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小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
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鈴木 友久
ミネベア株式会社
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安田 安生
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静大電研
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福田 安生
日本鋼管(株)中央研究所
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石田 明広
静岡大学 工学部電気電子工学科
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立岡 浩一
静岡大
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藤安 洋
静大工
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青木 徹
静岡大学 電子工学研究所
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藤安 洋
静岡大学工学部電子工学科
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島岡 五朗
The University of New South Wales
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伊藤 達也
静岡大学大学院工学研究科
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藤安 洋
静岡大学工学部
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Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
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伊ケ崎 泰宏
静大電子研
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川角 明人
静岡大学 電子工学研究所
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立岡 浩一
静岡大学電子科学研究科
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松本 享広
静大工
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牧野 吉孝
静大工
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海野 晶裕
静大工
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中西 洋一郎
静大電子研
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松田 孝司
静大工
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松永 和晴
静大工
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伊左次 晃司
静大工
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Brown P
ケンブリッジ大
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Xin Y
ケンブリッジ大
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Humphreys C
ケンブリッジ大
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芝 文広
静岡大学電子工学研究所
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中野 文樹
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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上倉 直喜
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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森 晋也
静岡大
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立岡 浩一
静大工業短大
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桑原 弘
静大工業短大
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藤安 洋小
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科
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中村 高遠
静岡大工学部
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木下 治久
静大工
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石田 明広
静大工
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桑原 弘
静大工短
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福田 安生
静岡大 電子工研
-
木下 治久
静大電子科研
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中川 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
著作論文
- ホットウォール蒸着法により作製したSrSe薄膜の構造
- Si基板上にZnSバッファ層を用いてエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- フレッシュパーソン12-8 Si基板上にエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- 真空蒸着法によるZnO薄膜の作製
- Si基板上にZnSバッファ層を用いてエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- 真空蒸着法によるZnO薄膜の作製
- 電子ビーム蒸着法で作製したZnO薄膜の発光特性
- 青色発光CaS:Cu, F薄膜の発光特性
- 青色発光CaS:Cu,F薄膜の発光特性
- 18-3 CaS : Cu, F薄膜の構造及び発光特性
- 青色発光CaS : Cu, F薄膜の熱処理と発光特性
- 青色発光CaS:Cu, F薄膜の熱処理と発光特性
- ZnTeへのMn拡散によるzb-MnTeの生成(Sb照射効果) : 気相成長I
- ホットウォール法によるCdTe,ZnTeの原子層成長 : 気相成長I
- Sb照射下で成長させたMnSi/Si薄膜のTEMによる評価 : 気相成長I
- 4-3 多元蒸着法により作製したSrGa_2S_4 : Ce薄膜の構造及び発光特性
- 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4 : Ce薄膜の作製
- 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4:Ce薄膜の作製
- 6)多元蒸着により作製したSrSe : Ce薄膜の構造および発光特性(情報ディスプレイ研究会)
- 5)ZnS : Tm, F薄膜の電荷補償(情報ディスプレイ研究会)
- 多元蒸着により作製したSrSe:Ce薄膜の構造及び発光特性 : 発光型ディスプレイ関連 : 情報ディスプレイ
- ZnS:Tm,F薄膜の電荷補償 : 発光型ディスプレイ関連 : 情報ディスプレイ
- ZnS:Tm薄膜ELの電荷補償と発光特性
- 多元蒸着法により作製したSrSe:Ce薄膜の構造及び発光特性
- HWE法成長PbTe-Pb1-xSnxTe超格子のバンド間光吸収
- 30p-K-12 PbTe-Pb_Sn_xTe超格子の光学的特性