立岡 浩一 | 静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
立岡 浩一
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
-
立岡 浩一
静岡大学工学部
-
桑原 弘
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
-
畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
-
中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
-
桑原 弘
静岡大学工学部
-
三宅 亜紀
静岡大学電子科学研究科
-
青木 徹
静岡大学大学院電子科学研究科
-
小南 裕子
静岡大学大学院電子科学研究科
-
川角 明人
静岡大学電子工学研究所
-
小南 裕子
静岡大学大学院工学研究科
-
池田 浩也
静岡大学電子工学研究所
-
早川 泰弘
静岡大学電子工学研究所
-
桑原 弘
静岡大学大学院電子科学研究科
-
桑原 弘
静岡大学 電子科学研究科
-
立岡 浩一
静大工
-
桑原 弘
静大工
-
Nakamura Tomohiko
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Ikeda H
National Laboratory For High Energy Physics
-
Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
-
Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
-
中野 文樹
静岡大学 電子工学研究所
-
石田 明広
静岡大学工学部
-
菅 博文
浜松ホトニクス
-
八百 隆文
JASRI
-
八百 隆文
東北大金研
-
中西 洋一郎
静岡大学 電子科学研究科
-
畑中 義式
静岡大学 電子科学研究科
-
石田 明広
静岡大学 工学部電気電子工学科
-
青木 徹
静岡大学電子工学研究所
-
八百 隆文
東北大学金属材料研究所
-
中村 高遠
静岡大学工学部
-
井上 翼
工学部電気電子工学科
-
井上 翼
静岡大学工学部電気工学科
-
藤安 洋
静岡大学工学部電子工学科
-
藤安 洋
静岡大学工学部
-
長澤 仁也
静岡大学工学部
-
牧野 久雄
東北大学金属材料研究所
-
牧野 久雄
高知工科大学 総合研究所 マテリアルデザインセンター
-
立岡 浩一
静岡大学 電子科学研究科
-
桑原 弘
静岡大学電子科学研究科
-
上倉 直喜
静岡大学電子工学研究所
-
中野 文樹
静岡大学電子工学研究所
-
芝 文広
静岡大学 電子工学研究所・工学部
-
藤安 洋小
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部電気電子工学科
-
大石 琢也
静岡大学大学院理工学研究科
-
水由 雄介
静岡大学大学院理工学研究科
-
井上 翼
静岡大学工学部
-
立岡 浩一
静岡大学電子工学研究所
-
中西 洋一郎
静岡大学
-
小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
-
八百 隆文
東北大学学際科学国際高等研究センター
-
中西 洋一郎
静大電研
-
畑中 義式
静岡大
-
立岡 浩一
静岡大
-
青木 徹
静岡大学 電子工学研究所
-
高井 吉明
名大院工
-
三浦 健太郎
静岡大学工学部電気・電子工学科
-
伊藤 達也
静岡大学大学院工学研究科
-
中西 洋一郎
静岡大
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
川角 明人
静岡大学 電子工学研究所
-
立岡 浩一
静岡大学電子科学研究科
-
松本 享広
静大工
-
牧野 吉孝
静大工
-
海野 晶裕
静大工
-
中西 洋一郎
静大電子研
-
松田 孝司
静大工
-
松永 和晴
静大工
-
伊左次 晃司
静大工
-
Brown P
ケンブリッジ大
-
Xin Y
ケンブリッジ大
-
Humphreys C
ケンブリッジ大
-
芝 文広
静岡大学電子工学研究所
-
中野 文樹
静岡大学 電子工学研究所・工学部
-
上倉 直喜
静岡大学 電子工学研究所・工学部
-
中村 高遠
静岡大学 電子工学研究所・工学部
-
伊藤 達也
静岡大学電子工学研究所
-
高木 教行
静岡大学大学院理工学研究科
-
稲葉 崇
静岡大学大学院理工学研究科
-
山田 竜二
静岡大学工学部電気・電子工学科
-
八百 隆文
東北大 学際科学国際高等研究セ
-
中川 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
著作論文
- Si基板上にZnSバッファ層を用いてエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- フレッシュパーソン12-8 Si基板上にエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- 真空蒸着法によるZnO薄膜の作製
- 平成20年度第11回リフレッシュ理科教室 : 東海支部浜松会場
- 平成19年度第10回リフレッシュ理科教室-東海支部浜松会場-開催報告
- 平成18年度第9回リフレッシュ理科教室-東海支部浜松会場- : 開催報告
- Si基板上にZnSバッファ層を用いてエピタキシャル成長したZnO薄膜の発光特性
- 真空蒸着法によるZnO薄膜の作製
- 電子ビーム蒸着法で作製したZnO薄膜の発光特性
- HWE法によるAlN/GaN量子カスケード構造の作製と構造評価(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- HWE法によるAlN/GaN量子カスケード構造の作製と構造評価(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- 青色発光CaS:Cu, F薄膜の発光特性
- 青色発光CaS:Cu,F薄膜の発光特性
- 18-3 CaS : Cu, F薄膜の構造及び発光特性
- 青色発光CaS : Cu, F薄膜の熱処理と発光特性
- 青色発光CaS:Cu, F薄膜の熱処理と発光特性
- ZnTeへのMn拡散によるzb-MnTeの生成(Sb照射効果) : 気相成長I
- ホットウォール法によるCdTe,ZnTeの原子層成長 : 気相成長I
- Sb照射下で成長させたMnSi/Si薄膜のTEMによる評価 : 気相成長I
- 4-3 多元蒸着法により作製したSrGa_2S_4 : Ce薄膜の構造及び発光特性
- 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4 : Ce薄膜の作製
- 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4:Ce薄膜の作製
- 6)多元蒸着により作製したSrSe : Ce薄膜の構造および発光特性(情報ディスプレイ研究会)
- 東海支部 (教育の広場 2007年度リフレッシュ理科教室報告)
- エコマテリアルとしてのシリサイド半導体
- シリサイド半導体薄膜の結晶成長と特性(1)熱反応堆積法に始まる新しいシリサイド半導体薄膜の成長 (特集 シリサイド半導体の最新動向)