畑中 義式 | 静岡大学 電子科学研究科
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概要
関連著者
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畑中 義式
静岡大学 電子科学研究科
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中西 洋一郎
静岡大学 電子科学研究科
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青木 徹
静岡大学 電子工学研究所
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小南 裕子
静岡大学 電子工学研究所
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畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
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Kottaisamy M.
静岡大学 電子工学研究所
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コッタイサミー M.
静岡大学電子工学研究所
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上倉 直喜
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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Kottaisamy M
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学
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西田 亮三
静岡大学電子工学研究所
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中島 宏佳
静岡大学電子科学研究科
-
中島 宏佳
静岡大学 電子科学研究科
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青木 徹
静岡大学電子工学研究所
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中村 高遠
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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Nakamura Tomohiko
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
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Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
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Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
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Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
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Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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西田 亮三
静岡大学
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村松 隆広
静岡大学 電子工学研究所
-
河合 敏昭
浜松ホトニクス
-
河合 敏昭
浜ホト
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高橋 秀年
静岡大学電子科学研究科
-
中村 高遠
静岡大学工学部
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山本 浩由
静岡大学 電子工学研究所
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Niraula Madan
静岡大学電子科学研究科
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ニラウラ マダン
名古屋工業大学・電気情報工学科
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Niraula M
名古屋工大
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Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
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ニラウラ マダン
名古屋工大 大学院
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ニラウラ マダン
名古屋工業大学工学部
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中野 文樹
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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中村 高遠
静大院理工
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Nakamura Tomoyuki
Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo
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中野 文樹
静岡大学 電子工学研究所
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徐 應楡
静岡大学 電子科学研究科
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小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
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中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
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栗田 誠
静岡大学電子工学研究所
-
富田 康弘
浜松ホトニクス(株)
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立岡 浩一
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
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東 直人
静岡大学工学部
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望月 大介
静岡大学 電子工学研究所
-
高橋 秀年
静岡大学 電子科学研究科
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二橋 得明
浜松ホトニクス
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NIRAULA M.
静岡大学電子科学研究科
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水野 武志
静岡大学電子工学研究所
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中島 徹
静岡大学電子工学研究所
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曽和 国容
デンソー工業技術短期大学校
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桑原 弘
静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部
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立岡 浩一
静岡大学 電子科学研究科
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桑原 弘
静岡大学 電子科学研究科
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東 直人
静岡大学 工学部
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東 直人
静岡大学地域共同研究センター
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ウィクラマナヤカ スニル
静岡大学電子工学研究所
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スニル ウィクラマナヤカ
静岡大学 電子工学研究所
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Nakamura T
Sumitomo Electric Industries Ltd.
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河合 敏昭
静岡大学
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今田 武史
静岡大学 電子工学研究所
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水野 武志
静岡大学 電子工学研究所
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中島 徹
静岡大学 電子工学研究所
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Nakamura Tetsuro
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
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岡本 忍
静岡大学 電子工学研究所
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曽和 国容
日本電装工技短大
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田部 雅美
日本電装工業技術短期大学校
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加藤 隆仁
静岡大学
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富田 康弘
浜松ホトニクス株式会社
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富田 康弘
浜松ホトニクス
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ミノルタ株式会社研究開発本部
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岡本 忍
静岡大学電子工学研究所
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静岡大学電子工学研究所
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畑中 義式
静岡大
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安藤 隆男
静岡大学
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助川 徳三
静岡大学電子科学研究科・静岡大学電子工学研究所
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安藤 隆男
静岡大学電子工学研究所 テレビジョン学会画像入力シンポジウム実行委員会
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Rao M.mohan
Central Electrochemical Research Institute
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Kottaisamy M.
静岡大学電子工学研究所
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Mohan Rao
Central Electrochemical Research Institute
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Jeyakumar D.
Central Electrochemical Research Institute
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藤波 達雄
静岡大
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立岡 浩一
静岡大学工学部
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高田 健司
静岡大学電子工学研究所
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Niraula Madan
静岡大学 電子科学研究科
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望月 大介
静岡大学電子工学研究所
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富田 康弘
静岡大学浜松ホトニクス
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二橋 得明
静岡大学浜松ホトニクス
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国府田 修一
静岡大学
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川角 明人
静岡大学 電子工学研究所
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川角 明人
静岡大学電子工学研究所
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桑原 弘
静岡大学電子科学研究科
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芝 文広
静岡大学 電子工学研究所・工学部
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長谷 智弘
静岡大学
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D Jeyakumar
Central Electrochemical Research Institute
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堀河 敬司
静岡大学電子工学研究所
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尾関 芳孝
静岡大学電子工学研究所
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Jeyakumar D.
Central Electrochemical Res. Inst. Cecri‐csir Karaikudi Ind
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澤田 和明
静岡大学 電子工学研究所
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堀河 敬司
静岡大学 電子工学研究所
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和田 英樹
静岡大学 電子工学研究所
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尾関 芳孝
静岡大学 電子工学研究所
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安間 英任
(株)小糸製作所
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大塚 勝博
静岡大学 電子工学研究所
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袴田 新太郎
静岡大学電子科学研究科
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袴田 新太郎
静岡大学 電子科学研究科
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助川 徳三
静岡大学
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北村 健
静岡大学 電子工学研究所
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河合 敏昭
浜松テレビ
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高橋 正浩
静岡大学 電子工学研究所
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ニラウラ マダン
静岡大学 電子工学研究所
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中村 篤志
静岡大学 電子工学研究所
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原田 良祐
静岡大学工学部
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高田 健司
静岡大学 電子工学研究所
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原田 良祐
静岡大学 工学部
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藤波 達雄
静岡大学 工学部
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徐 應瑜
静岡大学 電子科学研究科
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武村 光隆
浜松テレビ
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古川 省吾
日本電装工技短大
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武村 光隆
静岡大学
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野中 秀紀
静岡大学電子工学研究所
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野中 秀紀
静岡大学 電子工学研究所
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安間 英任
静岡大学(株)小糸製作所
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アレキサンダー ブローベル
ポーランド科学アカデミー
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古川 省吾
日本電装工業技術短期大学校
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津田 和明
静岡大学 電子工学研究所
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高橋 秀年
静岡大学電子工学研究所
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立岡 浩一
静岡大学電子工学研究所
-
中川 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
著作論文
- 緑色発光SrGa_2S_4:Eu薄膜の発光特性
- Y_2O_2S:Eu^赤色微粒子蛍光体の合成
- 高エネルギー放射線画像検出器のためのパターンレーザードーピングの研究
- 青色発光CaS:Cu, F薄膜の発光特性
- 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4:Ce薄膜の作製
- Zn添加酸化物蛍光体の作製と低速電子線励起発光特性
- 低電圧駆動ディスプレイ用微粒子蛍光体の合成
- 中速電子線励起における導電性被覆蛍光体の寿命特性
- 8)NEA冷陰極を用いた電子ビームの密度分布の測定(〔テレビジョン電子装置研究会(第80回)画像表示研究会(第37回)〕合同)
- 蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察
- 希土類添加Y_2O_3薄膜の低速電子線励起発光
- 集積型EL素子の作製と発光特性
- P-i-na-Si:H光導電層と画素分離されたアルミ反射鏡を持つ液晶空間光変調器
- 1)NEA冷陰極を用いたビジコン電子銃の基礎実験((テレビジョン電子装置研究会(第73回) 画像表示研究会(第30回))合同)
- リモートプラズマ法による有機シリコンからの窒化シリコン化合物薄膜の形成
- 1)NEA冷陰極の放出電子密度分布(テレビジョン電子装置研究会(第87回)画像表示研究会(第46回))
- SrSe:Ce/ZnS:Mn積層薄膜の白色ELとRGB化 : 情報入力,情報ディスプレイ
- 高エネルギー放射線画像検出器のためのパターンレーザードーピングの研究
- ガンマ線計測と画像応用p-i-nCdTe室温動作核放射線検出器の作製
- n^+-i-p^+光導電層を用いた液晶空間光変調素子
- リモートプラズマ励起MOCVDによるZnSeの原子層エピタキシー
- リモートプラズマ励起MOCVDによるZnSeの原子層エピタキシー
- リモートプラズマ励起MOCVDによるZnSeの原子層エピタキシー
- 青色発光SrGa_2S_4:Ce薄膜のCe濃度と発光特性
- SrS:Cu, F薄膜EL素子の発光特性
- Cas:Cu, F薄膜の熱処理とEL特性
- PPVを配位子とした(π-アレーン)ルテニウム錯体の発光特性
- プラズマCVD法によるSiC薄膜の形成
- 有機シリコン材料からのSiC薄膜の形成における組成制御
- 有機シリコン材料からのSiC薄膜の形成における組成制御
- 有機シリコン材料からのSiC薄膜の形成における組成制御
- Si基板上のEL素子の集積化
- Y_2.O_3:Eu/ZnS/Y_2.O_3:Eu構造の赤色EL : 情報ディスプレイ
- マグネトロンスパッタ法により作成したY_2O_2S : Eu薄膜
- 7)PVF_2焦電型ビジコンの実験報告(テレビジョン電子装置研究会(第67回) 画像表示研究会(第23回) 同合)
- 1)シリコンを用いたNEA冷陰極(テレビジョン電子装置研究会(第67回) 画像表示研究会(第23回) 同合)
- 緑色発光SrGa_2S_4:Eu薄膜の発光特性
- 多元蒸着法による青色発光EL用CaGa_2S_4:Ce薄膜の作製
- 多元蒸着法により作製したSrGa_2S_4:Ce薄膜の構造及び発光特性 : 供給比、堆積速度、熱処理依存性
- 青色発光SrG_2S_4:Ce薄膜の低速電子線発光におけるH_2S処理の効果
- SrGa_2S_4:Ce薄膜の作製と電子線励起発光特性
- エタノールガス添加O_2RIE
- ガス封入形焦電どジコンにおけるカソードの寿命について