Nakamura Tomoyuki | Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation

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概要

• 同名の論文著者
• Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporationの論文著者

関連著者

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo Jpn

• 中村 高遠

  静岡大学工学部

• Nakamura T

  Waseda Univ. Tokyo Jpn

• 中村 龍史

  阪大

• NAKAMURA Terutaro

  The Institute for Solid State Physics,Tokyo University

• Nakamura T

  National Defense Acad. Kanagawa Jpn

• 小南 裕子

  静岡大学電子工学研究所

• 中西 洋一郎

  静岡大学電子工学研究所

• 三間 圀興

  阪大レーザー研

• 畑中 義式

  静岡大学電子工学研究所

• 青木 徹

  静岡大学電子工学研究所

• 東 直人

  静岡大学工学部

• 長友 英夫

  阪大レーザー研

• 城崎 知至

  阪大レーザー研

• 高橋 直行

  静大院理工

• 中村 龍史

  阪大レーザー研

• 中村 龍史

  原子力機構・関西・光医療セ

• 橘 邦英

  愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻

• Tachibana Kunihide

  Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

• 橘 邦英

  京都工繊大工芸

• 坂上 仁志

  核融合研

• 中村 龍史

  Department Of Applied Physics Waseda University

• 高橋 直行

  静岡大学工学部物質工学科

• Izumi Naoki

  Process Technology Div. Ulsi R&d Headquarters Rohm Co. Ltd.

• 武田 和夫

  福井大学工学研究科

• 藤岡 慎介

  阪大レーザー研

• 西村 博明

  阪大レーザー研

• 藤岡 慎介

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 武士 邦雄

  キャノン株式会社

• 青木 徹

  静岡大学 電子工学研究所

• 貝谷 和彦

  静岡大学工学部物質工学科

• 中村 高遠

  静岡大学 電子工学研究所・工学部

• 畑中 義式

  愛知工科大学

• 犬伏 雄一

  阪大院工

• 岡野 泰彬

  阪大レーザー研

• 甲斐 健師

  阪大レーザー研

• Koenig M.

  LULI

• 砂原 淳

  レーザー技術総合研究所

• 小南 裕子

  静岡大学 電子工学研究所

• 甲斐 健師

  日本原子力研究開発機構関西光科学研究所

• 古賀 麻由子

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 中西 洋一郎

  静岡大学 電子科学研究科

• 畑中 義式

  静岡大学 電子科学研究科

• Kottaisamy M.

  静岡大学電子工学研究所

• 三宅 亜紀

  静岡大学電子科学研究科

• 山元 明

  東京工科大学

• 白神 宏之

  阪大レーザー研

• 砂原 淳

  阪大レーザー研

• 河村 徹

  東工大総合理工

• Fourment C.

  ボルドー大

• Santos J.

  ボルドー大

• Malka G.

  ボルドー大

• Boscheron A.

  CEA

• Casner A.

  CEA

• 犬伏 雄一

  阪大レーザー研

• Batani D.

  ミラノ大

• Morace A.

  ミラノ大

• Redaelli R.

  ミラノ大

• Koenig M.

  エコールポリテクニーク

• Nakamura Takashi

  Rohm Co. Ltd.

• OHTANI Shunsuke

  The University of Electro-Communications

• 加道 雅孝

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 山元 明

  東京工科大

• 部谷 学

  阪大レーザー研

• 百瀬 与志美

  静大電研

• 百瀬 与志美

  静岡大学電子工学研究所

• Kottaisamy M.

  静岡大学 電子工学研究所

• KAWAI Tomoji

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• TABATA Hitoshi

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• 松沢 隆嗣

  根本特殊化学(株)技術開発センター

• 加道 雅孝

  阪大レーザー研

• 中村 龍史

  原研関西

• 伊藤 節郎

  旭硝子中研

• OHTANI Shunsuke

  Institute for Laser Science, The University of Electro-Communications

• 百瀬 与志美

  静岡大学電子工学研究所技術部

• 大道 浩児

  静岡大学工学部物質工学科

• 瀧宮 和男

  広島大工

• 小南 裕子

  静岡大学

• 中西 洋一郎

  静岡大学

• 中井 光男

  阪大レーザー研

• 畦地 宏

  阪大レーザー研

• 重森 啓介

  阪大レーザー研

• Zhong Jiayong

  阪大レーザー研

• 大谷 一人

  阪大レーザー研

• 渡利 威士

  阪大レーザー研

• 武田 和夫

  阪大レーザー研

• 細田 裕計

  阪大レーザー研

• 有川 安信

  阪大レーザー研

• 持山 智浩

  阪大レーザー研

• 田辺 稔

  阪大レーザー研

• 坂和 洋一

  阪大レーザー研

• 小賀 麻由子

  阪大レーザー研

• 磯部 光孝

  阪大レーザー研

• 長井 圭治

  阪大レーザー研

• 乗松 孝好

  阪大レーザー研

• 岩本 晃史

  阪大レーザー研

• 三戸 利行

  阪大レーザー研

• 藤田 尚徳

  阪大レーザー研

• 猿倉 信彦

  阪大レーザー研

• Batanic D.

  ミラノ大

• Moracec A.

  ミラノ大

• Redaeric R.

  ミラノ大

• 中村 能史

  阪大レーザー研

• 河村 徹

  東工大総理工

• 中崎 忍

  宮崎大工

• 藤田 尚徳

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 反保 元伸

  阪大レーザー研

• 兒玉 了祐

  阪大レーザー研

• 岡田 一範

  京大化研

• 大谷 一人

  京大化研

• 砂原 淳

  レーザー総研

• 岩本 晃史

  核融合研

• 児玉 了祐

  阪大院工

• 反保 元伸

  原子力機構・関西・光医療セ

• TAKAHASHI Kazuyuki

  Institute for Molecular Science, and CREST, Japan Science and Technology Agency

• KOBAYASHI Hayao

  Institute for Molecular Science, and CREST, Japan Science and Technology Agency

• 古賀 麻由子

  阪大レーザー研

• SAWA Hiroshi

  Photon Factory, Institute of Materials Structure Science

• 秦 彰朗

  阪大レーザー研

• 伊藤 節郎

  旭硝子株式会社中央研究所

• 三戸 利行

  核融合科学研究所

• Tanaka Kazuyoshi

  Department of Biofunctional Informatics, Graduate School of Health Care Sciences, Tokyo Medical and

• 田辺 稔

  阪大院工

• Stephens Richard

  General Atomic

• 藤田 尚徳

  大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター

• 乗松 孝好

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• Wakabayashi Yusuke

  Department Of Materials Structure Science The Graduate University For Advanced Studies:institute Of

• Sawa H

  Institute Of Materials Structure Science Kek

• Suematsu H

  Spring-8

• Sawa Hiroshi

  Department Of Physics Aoyama-gakuin University

• AZUMI Reiko

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部

• 太田 雅壽

  新潟大工

• 山崎 比登志

  岡山大・理

• 畑中 義式

  静岡大

• 中西 洋一郎

  静岡大学大学院工学研究科電子工学

• Fujiwara H

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Osaka Prefecture University And Crest Jst

• 乗松 孝好

  阪大レーザー研、アメリカ海軍研究所

• 坂和 洋一

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 中井 光男

  阪大レーザー研、アメリカ海軍研究所

• 三間 圀興

  大阪大学レーザー核融合研究センター:ワーキンググループ

• 松下 知広

  阪大レーザー研

• 疇地 宏

  大阪大学レーザー核融合研究センター

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部電気電子工学科

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部機能材料工学科

• 小南 裕子

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 畑中 義式

  静岡大学大学院電子科学研究科

• NAKAMURA Takashi

  Cyclotron Radioisotope Center, Tohoku University

• 伊藤 節郎

  旭硝子(株)中央研究所

• NAKAMURA Takashi

  Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM), Tohoku University

• Zhong Jiayong

  Nat'l. Astronomical Observatories

• Krushelnick K.

  ミシガン大

• TOMITA Hirofumi

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 中井 貞雄

  阪大・工

• 長井 圭治

  東工大

• 粟野 信哉

  阪大院工

• NAKAYASHIKI Takashi

  Department of Molecular Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University

• MISAKI Yohji

  Department of Molecular Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University

• NAKAMURA Toshikazu

  Institute for Molecular Science, Myodaiji

• Sigel R

  マックスプランク量子光学研

• 青木 徹

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 中村 龍史

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 城暗 知至

  阪レーザー総研

• Nakamura T.

  ILE Osaka Univ.

• 砂原 淳

  ILT

• Shiraga A.

  阪大レーザー研

• 千徳 靖彦

  ネバダ大レノ校

• Ter-Avetisyan K.

  マックスボルン研

• Schnuerer M.

  マックスボルン研

• Sokollik T.

  マックスボルン研

• Nickles P.

  マックスボルン研

• Sandner W.

  マックスボルン研

• Takimiya Kazuo

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Hiroshima University

• Nakamura T

  High Energy Accelerator Research Organization

• Aonuma Shuji

  Academic Frontier Promotion Center Osaka Electro-communication University

• 松下 知広

  阪大院理

• 有川 安信

  阪大レーザー研、アメリカ海軍研究所

• 中崎 忍

  宮崎大・工

• 中崎 忍

  宮崎大

• 渡利 威士

  阪大レーザー研、アメリカ海軍研究所

• 細田 裕計

  阪大レーザー研、アメリカ海軍研究所

• 松岡 健之

  Center For Ultrafast Optical Science University Of Michigan

• 大谷 一人

  京都大学化学研究所:京都大学理学研究科グローバルcoe

• Drozdova Olga

  Institute For Molecular Science

• Nakao N

  Radioisotope Center University Of Tokyo

• Misaki Yohji

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Ehime University

• Fujiwara E

  Academic Frontier Promotion Center Osaka Electro-communication University

• Yamada H

  Univ. Electro‐communications Tokyo Jpn

• 稲田 紘

  兵庫県大 大学院応用情報科学研究科

• Aoki T

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• 中西 洋一郎

  静岡大

• TAKAHASHI Toshihiro

  Department of Physics, Gakushuin University

• ITOH Mitsuru

  Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology

• Nakamoto Tatsushi

  High Energy Accelerator Research Organization

• MOMOSE Yoshimi

  Research Institute of Electronics, Shizuoka University

• Aoki Toru

  Research Institute Of Electronics Shizuoka University

• Saito G

  Kyoto Univ. Kyoto

• Saito G

  Division Of Chemistry Graduate School Of Science Kyoto University

• Saito Gunzi

  Chemistry Department Kyoto University

• YAMAZAKI Hitoshi

  Department of Physics,Faculty of Science,Okayama University

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著作論文

• 23pRS-2 高速点火用コーン付きシェルターゲットの爆縮(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24aRS-10 超高強度レーザー生成プラズマからの放射X線の偏光度分布と高速電子輸送(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24aRS-11 X線偏光分光計測による超高強度レーザー生成高速電子輸送のレーザー偏光依存性の観測(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24aRS-12 偏光X線分光法による衝突輻射モデルと電子衝突磁気副準位別断面積の理論的研究(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• Electron transport in a gold nanoparticle assembly structure stabilized by a physisorbed porphyrin derivative
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程(発光型・非発光型ディスプレイ合同研究会)
• 20pZB-3 高速点火の先進ターゲットによる非球対称爆縮の設計(20pZB 慣性核融合(高速点火),チュートリアル講演,領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
• 23pRE-8 レーザー照射によるガス密度プラズマ中での磁気渦形成(プラズマ基礎(高エネルギー密度プラズマ),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24pQE-5 FIREX-Iにおけるコア加熱特性 : コーンチップの影響(慣性核融合(ハイドロ・診断・高速点火),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24pQE-10 高速点火における高速電子ビームの生成制御(慣性核融合(ハイドロ・診断・高速点火),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 22aTA-6 超高強度レーザー照射によるシース場の表面移動とプロトン加速(高エネルギー密度プラズマ物理,22aTA 領域2,ビーム物理領域合同セッション,ビーム物理領域)
• 24aRS-4 非球対称爆縮コアの挙動特性に関する数値解析(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• ハライドVPEによる紫外発光ZnO薄膜の作製
• ハライドVPEによる紫外発光ZnO薄膜の作製
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程
• 24aRS-5 固体ターゲット中の高速電子輸送に対する統合シミュレーション解析(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 電気化学析出法による非晶質酸化ビスマス薄膜の作製
• AP-HCVD法により作製したσ-Bi_2O_3薄膜へのガス供給の影響と表面モフォロジー
• 17aD01 大気圧ハライド気相成長法によるYSZ(111)基板上へのδ-Bi_2O_3薄膜の作製(結晶成長基礎(1),第35回結晶成長国内会議)
• 大気圧ハライド気相成長法によるδ-Bi2O3薄膜の作製と薄膜構造評価用X線回折装置による結晶性評価
• 薄膜化プロセスにより実現した室温で安定な螢石型酸化ビスマスの作製
• オプトアジレント機能を有する金属窒化物薄膜の創製--金属窒化物薄膜の不思議な機能
• ユーロピウムをドープした青色および緑色発光アルミン酸塩のEPR評価
• ユーロピウムをドープした青色および緑色発光アルミン酸塩のEPR評価
• 低電圧駆動ディスプレイ用微粒子蛍光体の合成
• 中速電子線励起における導電性被覆蛍光体の寿命特性
• 低電圧駆動ディスプレイ用微粒子蛍光体の合成
• 中速電子線励起における導電性被覆蛍光体の寿命特性
• SrTiO_3:Pr, Al赤色蛍光体のCL特性に対するAl添加効果
• SrTiO_3:Pr, Al赤色蛍光体のCL特性に対するAl添加効果
• ゾル-ゲル法により導電処理した蛍光体の低速電子線励起発光特性
• 赤色発光SrTiO_3:PrAl蛍光体におけるAl添加効果
• ゾルーゲル法により導電処理した蛍光体の低速電子線励起発光
• Preparation of aluminum oxide films at low temperatures by a hot wall technique
• 常磁性共鳴における新しい展開
• Charge Ordering in α-(BEDT-TTF)_2I_3 by Synchrotron X-ray Diffraction(Condensed matter : electronic structure and electrical, magnetic, and optical properties)
• Thermal Decomposition of 1-Cyclohexyl-1-methylethyl Peroxypivalate
• A Novel Organic Peroxyester as an Exclusive Source of tert-Butyl Radicals
• Mechanism for the Peroxide-Initiated Crosslinking of Polyethylene in the Presence of 2,4-Diphenyl-4-methyl-1-pentene
• Crosslinking of Polyethylene by Dicumyl Peroxide in the Presence of 2,4-Diphenyl-4-methyl-1-pentene
• 18-1 低速電子線励起時における蛍光体表面の電位変化
• 14)蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察(情報ディスプレイ研究会)
• 蛍光体表面の改質による低速電子励起発光特性の向上
• 蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察
• 蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察
• 遷移金属付活Ga_2O_3薄膜の製法と構造及び発光特性
• 遷移金属付活Ga_2O_3薄膜の製法と構造及び発光特性
• 21aTB-1 シリカエアロゲルターゲットを用いた超高強度レーザーによる高速イオンの発生(プラズマ科学(高エネルギー密度プラズマ,液中プラズマ),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• Contact Structure for a Superconducting Field Effect Transistor Using SrTiO_3/YBa_2Cu_3O_ Films
• 常磁性共鳴によるII-VI化合物薄膜および超格子材料の局所歪
• Eu付活アルミン酸ストロンチウム蛍光体の残光特性に及ぼす共付活希土類イオンの影響
• Does the Macrostructure of Deoxyribonucleic Acid Molecules Adsorbed on Substrates by the Pulse Injection Method Reflect That in Solution?
• Real Space Observation of Double-Helix DNA Structure Using a Low Temperature Scanning Tunneling Microscopy
• Reaction Mechanism of Alkoxy Derivatives of Titanium Diketonates as Source Molecules in Liquid Source Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Infrared Absorption Spectroscopy
• Effects of O_2 Gas on Reaction Mechanisms in the Chemical Vapor Deposition of (Ba, Sr)TiO_3 Thin Film
• Film Precursor Formation in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Barium Strontium Titanate Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Formation Mechanism of Strontium and Titaniuln Oxide Fillns by Metalorganlc Chemlcal Vapor Deposition: An Isotopic Labeling Study Using ^O_2 : Atoms, Molecules, and Chemical Physics
• Diagnosis of Oxidation Reactions in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films by In Situ Fourier Transform Infrared Spectroscopy
• Effects of Gas-Phase Thermal Decompositions of Chemical Vapor Deposition Source Molecules on the Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Fourier Transform Infared Spectroscopy
• Gas Phase Reactions in the MOCVD of (Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Microdischarge Optical Emission Spectroscopy as a Novel Diagnostic Tool for Metalorganic Chemical Vapor Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films
• Measurements of Secondary Neutrons Produced from Thick Targets Bombarded by High Energy Neon Ions
• Properties of Ferroelectric Memory FET Using Sr_2(Ta,Nb)_2O_7 Thin Film
• Study of Ferroelectric Materials for Ferroelectric Memory FET(Special Issue on Advanced Memory Devices Using High-ε and Ferroelectric Films)
• Properties of Ferroelectric Memory with Ir System Materials as Electrodes(Special Issue on Advanced Memory Devices Using High-ε and Ferroelectric Films)
• Fabrication Technology of Ferroelectric Memories
• Development of Low Dielectric Constant Ferroelectric Materials for the Ferroelectric Memory Feild Effect Transistor
• Electroabsorption of Amphiphilic Tetrathiafulvalene Derivatives/7, 7, 8, 8-Tetracyano-2, 3, 5, 6-tetrafluorequinodimethane Systems in Langmuir-Blodgett Films
• Langmuir Layers and Langmuir-Blodgett Films of Bis-tetrathiafulvalene Annelated Macrocycle
• Langmuir-Blodgett Films of Charge-Transfer Complexes : Ethylenedithio-Substituted Amphiphilic Bis-TTF Macrocycle and F_4TCNQ or Br_2TCNQ
• MEASUREMENT OF REACTION RATE COEFFICIENT OF LASER-EXCITED Ca^+ IONS WITH H_2O MOLECULES IN AN ION TRAP
• Laser-Microwave Double-Resonance Spectroscopy of Laser-Cooled ^9Be^+ Ions in a Weak Magnetic Field for Studying Unstable Be Isotopes
• Temperature dependence of band gap energies of GaAsN alloys
• Organic nanodots of a cation radical salt of amphiphilic bis-TTF annulated macrocycle
• Dielectric Behavior of (1-x)LaAlO_3-xSrTiO_3 Solid Solution System at Microwave Frequencies
• Structures and Electrical Properties of (BTM-TS-TTP)_4PF_6
• Ionicity Phase Diagram of Trifluoromethyl-TCNQ (CF_3TCNQ) Charge-Transfer Solids
• Properties of Ferroelectric Memory FET Using Sr_2(Ta,Nb)_2O_7 Thin Film
• Transmission Electron Microscopy Observation of CoSi_x Spikes in Si Substrates during Co-silicidation Process
• 3.2 磁気渦イオン加速(3.臨界密度プラズマを利用したレーザーイオン加速の研究,高強度レーザーを利用したイオン加速とその利用に関する研究)
• 24aRS-6 高速点火における高速電子ビーム強度のスケール則(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• Molecular Motions and Hydrogen-Bonding Networks in (o-Aminoanilinium)-(Crown Ethers)-[PMo_O_]^ Crystals

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