Formation Mechanism of Strontium and Titaniuln Oxide Fillns by Metalorganlc Chemlcal Vapor Deposition: An Isotopic Labeling Study Using ^<18>O_2 : Atoms, Molecules, and Chemical Physics
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2001-11-15
著者
-
橘 邦英
京都工繊大工芸
-
中村 高遠
静岡大学工学部
-
橘 邦英
愛媛大学大学院工学研究科電子情報工学専攻
-
Tachibana Kunihide
Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
中村 高遠
静大院理工
-
Nakamura T
Sumitomo Electric Industries Ltd.
-
Nakamura Toshihiro
Departments of Cardiology, National Hospital Organization Kyushu Medical Center
-
Nakamura Tomoyuki
Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation
-
Nakamura Takatou
Department Of Electronics Faculty Of Engineering Shizuoka University
-
Nakamura T
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
-
MOMOSE Shun
Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
-
Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
-
Nakamura Tetsuro
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Tachibana Kunihide
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo
-
Momose Shun
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
Nakamura Toshihiro
Department Of Anesthesiology Yamanashi Medical University
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