Nakamura Toshihiko | Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

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概要

• 同名の論文著者
• Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technologyの論文著者

関連著者

• 中村 高遠

  静岡大学工学部

• 畑中 義式

  静岡大学電子工学研究所

• 中西 洋一郎

  静岡大学電子工学研究所

• Nakamura T

  Waseda Univ. Tokyo Jpn

• 中村 龍史

  阪大

• 小南 裕子

  静岡大学電子工学研究所

• 青木 徹

  静岡大学電子工学研究所

• 三間 圀興

  阪大レーザー研

• 東 直人

  静岡大学工学部

• 長友 英夫

  阪大レーザー研

• 城崎 知至

  阪大レーザー研

• Nakamura Takashi

  Rohm Co. Ltd.

• 中村 龍史

  阪大レーザー研

• 中村 龍史

  原子力機構・関西・光医療セ

• 橘 邦英

  京都工繊大工芸

• 坂上 仁志

  核融合研

• MATSUMOTO Mutsuyoshi

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• 中村 龍史

  Department Of Applied Physics Waseda University

• 青木 徹

  静岡大学 電子工学研究所

• Kondo Toshihisa

  Graduate School Of Advanced Sciences Of Matter Hiroshima University

• Kondo Toshihisa

  Department Of Physics Hiroshima University

• 武田 和夫

  福井大学工学研究科

• 中西 洋一郎

  静岡大学

• 藤岡 慎介

  阪大レーザー研

• 西村 博明

  阪大レーザー研

• 藤岡 慎介

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• SAMUKAWA Seiji

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• 畑中 義式

  静岡大

• 中西 洋一郎

  静岡大学 電子科学研究科

• 畑中 義式

  静岡大学 電子科学研究科

• 武士 邦雄

  キャノン株式会社

• 斎藤 秀俊

  長岡技術科学大学

• 立岡 浩一

  静岡大学工学部

• 桑原 弘

  静岡大学工学部

• Abe Kohji

  Department Of Materials Science Faculty Of Science Hiroshima University

• 畑中 義式

  愛知工科大学

• 犬伏 雄一

  阪大院工

• 岡野 泰彬

  阪大レーザー研

• 甲斐 健師

  阪大レーザー研

• Koenig M.

  LULI

• 砂原 淳

  レーザー技術総合研究所

• 小南 裕子

  静岡大学 電子工学研究所

• 甲斐 健師

  日本原子力研究開発機構関西光科学研究所

• 小田 俊理

  東工大工

• 小田 俊理

  東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター

• Watanabe Takashi

  Department of Chemistry, Graduate School of Science, Kyoto University

• OHTANI Shunsuke

  The University of Electro-Communications

• 古賀 麻由子

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• TOMITA Hirofumi

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Yasuda Yukio

  Department Of Applied Physics Osaka City University

• Kottaisamy M.

  静岡大学電子工学研究所

• 立岡 浩一

  静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学工学部

• KANEMATSU Nobuyuki

  Department of Accelerator and Medical Physics, Research Center for Particle Therapy, National Instit

• Kim I‐s

  Korea Res. Inst. Standards And Sci. Taejon Kor

• 内藤 真也

  静岡大学電子工学研究所

• 三宅 亜紀

  静岡大学電子科学研究科

• 小南 裕子

  静岡大学

• 山元 明

  東京工科大学

• 白神 宏之

  阪大レーザー研

• 砂原 淳

  阪大レーザー研

• 河村 徹

  東工大総合理工

• Fourment C.

  ボルドー大

• Santos J.

  ボルドー大

• Malka G.

  ボルドー大

• Boscheron A.

  CEA

• Casner A.

  CEA

• 犬伏 雄一

  阪大レーザー研

• Batani D.

  ミラノ大

• Morace A.

  ミラノ大

• Redaelli R.

  ミラノ大

• Koenig M.

  エコールポリテクニーク

• AZUMI Reiko

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• KISHIO Kohji

  Department of Superconductivity, Graduate School of Engineering, University of Tokyo

• 中西 洋一郎

  静岡大学大学院工学研究科電子工学

• 小南 裕子

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 畑中 義式

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 加道 雅孝

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• NAKAMURA Takashi

  Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials (IMRAM), Tohoku University

• 山元 明

  東京工科大

• 部谷 学

  阪大レーザー研

• NAKAMURA Teruo

  Department of Health Science, Hirosaki University School of Medicine

• YASUDA YUKIO

  Central Institute for Experimental Animals

• 百瀬 与志美

  静大電研

• 百瀬 与志美

  静岡大学電子工学研究所

• Kottaisamy M.

  静岡大学 電子工学研究所

• KAWAI Tomoji

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• TABATA Hitoshi

  The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

• 松沢 隆嗣

  根本特殊化学(株)技術開発センター

• 加道 雅孝

  阪大レーザー研

• 青木 徹

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 中村 龍史

  原研関西

• ISHIDA Akihiro

  Department of Electrical and Electronic Engineering, Shizuoka University

• Okamoto Atsushi

  Department of Otorhinolaryngology, Head and Neck Surgery, Interdisciplinary Graduate School of Medic

• 伊藤 節郎

  旭硝子中研

• 瀧宮 和男

  広島大工

• 中井 光男

  阪大レーザー研

• 畦地 宏

  阪大レーザー研

• 重森 啓介

  阪大レーザー研

• Zhong Jiayong

  阪大レーザー研

• 大谷 一人

  阪大レーザー研

• 渡利 威士

  阪大レーザー研

• 武田 和夫

  阪大レーザー研

• 細田 裕計

  阪大レーザー研

• 有川 安信

  阪大レーザー研

• 持山 智浩

  阪大レーザー研

• 田辺 稔

  阪大レーザー研

• 坂和 洋一

  阪大レーザー研

• 小賀 麻由子

  阪大レーザー研

• 磯部 光孝

  阪大レーザー研

• 長井 圭治

  阪大レーザー研

• 乗松 孝好

  阪大レーザー研

• 岩本 晃史

  阪大レーザー研

• 三戸 利行

  阪大レーザー研

• 藤田 尚徳

  阪大レーザー研

• 猿倉 信彦

  阪大レーザー研

• Batanic D.

  ミラノ大

• Moracec A.

  ミラノ大

• Redaeric R.

  ミラノ大

• 中村 能史

  阪大レーザー研

• 河村 徹

  東工大総理工

• 中崎 忍

  宮崎大工

• 藤田 尚徳

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 反保 元伸

  阪大レーザー研

• 兒玉 了祐

  阪大レーザー研

• 岡田 一範

  京大化研

• 大谷 一人

  京大化研

• 砂原 淳

  レーザー総研

• 岩本 晃史

  核融合研

• 児玉 了祐

  阪大院工

• 反保 元伸

  原子力機構・関西・光医療セ

• Nakamura Takashi

  Department of Cardiology, Saiseikai Shigaken Hospital

• 澤田 和明

  豊橋技術科学大学電気・電子工学系

• TAKAHASHI Kazuyuki

  Institute for Molecular Science, and CREST, Japan Science and Technology Agency

• KOBAYASHI Hayao

  Institute for Molecular Science, and CREST, Japan Science and Technology Agency

• 古賀 麻由子

  阪大レーザー研

• SAWA Hiroshi

  Photon Factory, Institute of Materials Structure Science

• 秦 彰朗

  阪大レーザー研

• 伊藤 節郎

  旭硝子株式会社中央研究所

• 三戸 利行

  核融合科学研究所

• Tanaka Kazuyoshi

  Department of Biofunctional Informatics, Graduate School of Health Care Sciences, Tokyo Medical and

• 田辺 稔

  阪大院工

• 近藤 隆

  富山医科薬科大学医学部放射線基礎医学教室

• Stephens Richard

  General Atomic

• 藤田 尚徳

  大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター

• 乗松 孝好

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• Sakamoto Hiroshi

  Department of Cardiology, The Jikei University School of Medicine

• Wakabayashi Yusuke

  Department Of Materials Structure Science The Graduate University For Advanced Studies:institute Of

• Sawa H

  Institute Of Materials Structure Science Kek

• Suematsu H

  Spring-8

• Sawa Hiroshi

  Department Of Physics Aoyama-gakuin University

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部

• 太田 雅壽

  新潟大工

• 山崎 比登志

  岡山大・理

• KAWAI Hideyuki

  Department of Physics, Chiba University

• Fujiwara H

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Osaka Prefecture University And Crest Jst

• 鈴木 佳子

  静岡大学電子工学研究所

• 乗松 孝好

  阪大レーザー研、アメリカ海軍研究所

• 坂和 洋一

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 中井 光男

  阪大レーザー研、アメリカ海軍研究所

• 三間 圀興

  大阪大学レーザー核融合研究センター:ワーキンググループ

• 松下 知広

  阪大レーザー研

• 鈴木 佳子

  静大

• 疇地 宏

  大阪大学レーザー核融合研究センター

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部電気電子工学科

• 太田 雅壽

  新潟大学工学部機能材料工学科

• ABE Katsuya

  Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology

• Abe Hiroshi

  Department Of Cardiology National Cardiovascular Center

• KOBAYASHI Makoto

  Department of Machine Intelligence and Systems Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku U

• 中島 宏佳

  静岡大学電子科学研究科

• Hasegawa Takahi

  Department Of Physics Faculty Of Science Ehime University

• 伊藤 節郎

  旭硝子(株)中央研究所

• Zhong Jiayong

  Nat'l. Astronomical Observatories

• Krushelnick K.

  ミシガン大

• Kim H‐j

  Thin Film Material Research Center Korea Institute Of Science And Technology

• SUZUKI Seiji

  明海大学歯学部口腔外科学第2講座

• 中井 貞雄

  阪大・工

• 長井 圭治

  東工大

• KAWAJI Hitoshi

  Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology

• 粟野 信哉

  阪大院工

• KATO HIROYUKI

  Department of General Surgical Science (Surgery I), Gunma University Graduate School of Medicine

• 澤田 和明

  豊橋技術科学大学

• NAKAYASHIKI Takashi

  Department of Molecular Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University

• MISAKI Yohji

  Department of Molecular Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University

• NAKAMURA Toshikazu

  Institute for Molecular Science, Myodaiji

• Sigel R

  マックスプランク量子光学研

• KATOH Hiroyuki

  Department of Radiation Oncology, Gunma University Graduate School of Medicine

• 中村 龍史

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 城暗 知至

  阪レーザー総研

• Nakamura T.

  ILE Osaka Univ.

• 砂原 淳

  ILT

• Shiraga A.

  阪大レーザー研

• 千徳 靖彦

  ネバダ大レノ校

• Ter-Avetisyan K.

  マックスボルン研

• Schnuerer M.

  マックスボルン研

• Sokollik T.

  マックスボルン研

• Nickles P.

  マックスボルン研

• Sandner W.

  マックスボルン研

• ISHIHARA Nobuhiro

  National Laboratory for High Energy Physics

• HASHIMOTO Takuya

  Department of Biotechnology, Graduate School of Engineering, Osaka University

• Takimiya Kazuo

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Hiroshima University

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著作論文

• 23pRS-2 高速点火用コーン付きシェルターゲットの爆縮(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24aRS-10 超高強度レーザー生成プラズマからの放射X線の偏光度分布と高速電子輸送(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24aRS-11 X線偏光分光計測による超高強度レーザー生成高速電子輸送のレーザー偏光依存性の観測(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24aRS-12 偏光X線分光法による衝突輻射モデルと電子衝突磁気副準位別断面積の理論的研究(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• Electron transport in a gold nanoparticle assembly structure stabilized by a physisorbed porphyrin derivative
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程(発光型・非発光型ディスプレイ合同研究会)
• 20pZB-3 高速点火の先進ターゲットによる非球対称爆縮の設計(20pZB 慣性核融合(高速点火),チュートリアル講演,領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
• 23pRE-8 レーザー照射によるガス密度プラズマ中での磁気渦形成(プラズマ基礎(高エネルギー密度プラズマ),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24pQE-5 FIREX-Iにおけるコア加熱特性 : コーンチップの影響(慣性核融合(ハイドロ・診断・高速点火),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 24pQE-10 高速点火における高速電子ビームの生成制御(慣性核融合(ハイドロ・診断・高速点火),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• 22aTA-6 超高強度レーザー照射によるシース場の表面移動とプロトン加速(高エネルギー密度プラズマ物理,22aTA 領域2,ビーム物理領域合同セッション,ビーム物理領域)
• 24aRS-4 非球対称爆縮コアの挙動特性に関する数値解析(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• ハライドVPEによる紫外発光ZnO薄膜の作製
• ハライドVPEによる紫外発光ZnO薄膜の作製
• Si基板上ZnSエピタキシャル薄膜のZnOへの酸化過程
• 24aRS-5 固体ターゲット中の高速電子輸送に対する統合シミュレーション解析(核融合プラズマ(慣性閉じ込め),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• Study of π^+π^- Pair Production in a Two-Photon Process at TRISTAN : VENUS Collaboration
• New Limits on Neutral Scalar Bosons
• Measurement of the Reactions e^+e^-→e^+e^- and e^+e^-→γγ at √=52 GeV
• Search for the Top Quark in e^+e^- Annihilation at √=50 GeV:The First Result from the VENUS Detector at TRISTAN
• Time-of-Flight Counters for VENUS Detector
• The Design and Performance of Multiwire Proportional Chambers for High Flux Beam Monitoring
• 4-3 多元蒸着法により作製したSrGa_2S_4 : Ce薄膜の構造及び発光特性
• 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4 : Ce薄膜の作製
• 多元蒸着法による青色発光SrGa_2S_4:Ce薄膜の作製
• 5)ZnS : Tm, F薄膜の電荷補償(情報ディスプレイ研究会)
• Optimally Stable Electron Cyclotron Resonance Plasma Generation and Essential Points for Compact Plasma Source
• Multi-Coil System for Electron Cyclcotron Resonance Plasma Generation
• Uniform Electron Cyclotron Resonance Plasma Generation for Precise ULSI Patterning
• Dependence of Electron Cyclotron Resonance Plasma Characteristics on Introduced Microwave Conditions
• 電気化学析出法による非晶質酸化ビスマス薄膜の作製
• AP-HCVD法により作製したσ-Bi_2O_3薄膜へのガス供給の影響と表面モフォロジー
• 17aD01 大気圧ハライド気相成長法によるYSZ(111)基板上へのδ-Bi_2O_3薄膜の作製(結晶成長基礎(1),第35回結晶成長国内会議)
• 大気圧ハライド気相成長法によるδ-Bi2O3薄膜の作製と薄膜構造評価用X線回折装置による結晶性評価
• 薄膜化プロセスにより実現した室温で安定な螢石型酸化ビスマスの作製
• オプトアジレント機能を有する金属窒化物薄膜の創製--金属窒化物薄膜の不思議な機能
• ユーロピウムをドープした青色および緑色発光アルミン酸塩のEPR評価
• ユーロピウムをドープした青色および緑色発光アルミン酸塩のEPR評価
• 低電圧駆動ディスプレイ用微粒子蛍光体の合成
• 中速電子線励起における導電性被覆蛍光体の寿命特性
• 低電圧駆動ディスプレイ用微粒子蛍光体の合成
• 中速電子線励起における導電性被覆蛍光体の寿命特性
• SrTiO_3:Pr, Al赤色蛍光体のCL特性に対するAl添加効果
• SrTiO_3:Pr, Al赤色蛍光体のCL特性に対するAl添加効果
• ゾル-ゲル法により導電処理した蛍光体の低速電子線励起発光特性
• 赤色発光SrTiO_3:PrAl蛍光体におけるAl添加効果
• ゾルーゲル法により導電処理した蛍光体の低速電子線励起発光
• a-Si_1-xC_x:H薄膜のXPS,ESRによる評価
• Preparation of aluminum oxide films at low temperatures by a hot wall technique
• 常磁性共鳴における新しい展開
• Dependence of Cathodoluminescent and Electrical Properties of Phosphors with Conducting Layer by Sol-Gel Method on Layer Thickness
• Improvement of Low Voltage Cathodoluminescent Properties of Zinc Sulfide Phosphors by Sol-Gel Method
• Red Electroluminescent Devices Using Mn-Doped CdS(Se)- and CdTe-ZnS Superlattices
• ZnS:Mn Electroluminescent Films Prepared by Hot Wall Technique
• Charge Ordering in α-(BEDT-TTF)_2I_3 by Synchrotron X-ray Diffraction(Condensed matter : electronic structure and electrical, magnetic, and optical properties)
• 希土類付活SrGa_2S_4蛍光体薄膜の発光特性
• 18-1 低速電子線励起時における蛍光体表面の電位変化
• 14)蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察(情報ディスプレイ研究会)
• 蛍光体表面の改質による低速電子励起発光特性の向上
• 蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察
• 蛍光体へ被覆した導電層の膜厚と低速電子線励起発光に関する考察
• 4-5 低速電子線励起における蛍光体の発光特性の改善
• 15)ゾル-ゲル法による蛍光体の被覆状態と発光特性の変化(情報ディスプレイ研究会 : 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• ゾル-ゲル法による蛍光体の被覆状態と発光特性の変化
• ゾルーゲル法による蛍光体の被覆状態と発光特性の変化
• Preparation Method and Optoelectrical Properties of a-Se/Cd_xSe_ Multilayer Films
• Design of Band Potential with a-Si_xGe_:H(F) Alloys
• Designing New Materials with Amorphous Semiconductors : Structure and Electrical Properties of Multiply Stacked a-Si/a-SiGe_x Layers
• 遷移金属付活Ga_2O_3薄膜の製法と構造及び発光特性
• 遷移金属付活Ga_2O_3薄膜の製法と構造及び発光特性
• High T_c Superconductivity in Tm-Ba-Cu-O System
• ZnS:Tm,F薄膜の電荷補償 : 発光型ディスプレイ関連 : 情報ディスプレイ
• ZnS:Tm薄膜ELの電荷補償と発光特性
• 21aTB-1 シリカエアロゲルターゲットを用いた超高強度レーザーによる高速イオンの発生(プラズマ科学(高エネルギー密度プラズマ,液中プラズマ),領域2,プラズマ基礎・プラズマ科学・核談合プラズマ・プラズマ宇宙物理)
• Microwave Dielectric Characteristics of Ilmenite-Type Titanates with High Q Values ( FERROELECTRIC MATERIALS AND THEIR APPLICATIONS)
• Contact Structure for a Superconducting Field Effect Transistor Using SrTiO_3/YBa_2Cu_3O_ Films
• In Situ Surface Characterization of SrTiO_3(100)Substrates for Well-defined SrTiO_3 and YBa_2Cu_3O_ Thin Film Growth
• In Situ Surface Characterization of YBa_2Cu_3O_ Thin Films Grown by Pulsed Laser Deposition
• ZnS:Cu,Br蛍光体中の不純物準位
• オキソチタニウムフタロシアニンの結晶多形とそれらを用いた電子写真感光体
• 高分子量アミンによる金属の溶媒抽出
• ジ-(2-エチルヘキシル)-リン酸による無機酸溶液からの鉄(3)の抽出
• ジアルキルリン酸による硫酸溶液からの2価金属の溶媒抽出
• 金属の溶媒抽出デ-タの数値化--トリオクチルアミンによる塩酸溶液からの2価金属(Co,Cu,Zn,Cd)抽出系
• ジ-(2-エチルヘキシル)-リン酸によるギ酸および酢酸溶液からのアルミニウム(3)の抽出
• 有機リン化合物による塩酸溶液からのバナジウム(4)の抽出--生成錯体の立体配置
• ジ-(2-エチルヘキシル)-リン酸による無機酸溶液からのアルミニウム(3)の抽出
• バナジウムの溶媒抽出
• トリカプリルメチルアンモニウム=クロリドおよびトリオクチルアミンによる塩酸溶液からのバナジウム(4)の抽出
• トリオクチルアミンおよびトリカプリルメチルアンモニウム=クロリドにより塩酸およびチオシアン酸溶液から抽出されるバナジウム(IV)のクロロおよびチオシアナト錯体
• ZnS:Mn薄膜の作製とその評価 (超薄膜--その機能と制御)
• 常磁性共鳴によるII-VI化合物薄膜および超格子材料の局所歪
• Eu付活アルミン酸ストロンチウム蛍光体の残光特性に及ぼす共付活希土類イオンの影響
• Does the Macrostructure of Deoxyribonucleic Acid Molecules Adsorbed on Substrates by the Pulse Injection Method Reflect That in Solution?
• Real Space Observation of Double-Helix DNA Structure Using a Low Temperature Scanning Tunneling Microscopy
• Reaction Mechanism of Alkoxy Derivatives of Titanium Diketonates as Source Molecules in Liquid Source Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Infrared Absorption Spectroscopy
• Effects of O_2 Gas on Reaction Mechanisms in the Chemical Vapor Deposition of (Ba, Sr)TiO_3 Thin Film
• Film Precursor Formation in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Barium Strontium Titanate Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Formation Mechanism of Strontium and Titaniuln Oxide Fillns by Metalorganlc Chemlcal Vapor Deposition: An Isotopic Labeling Study Using ^O_2 : Atoms, Molecules, and Chemical Physics
• Diagnosis of Oxidation Reactions in Metalorganic Chemical Vapor Deposition of (Ba,Sr)TiO_3 Films by In Situ Fourier Transform Infrared Spectroscopy
• Effects of Gas-Phase Thermal Decompositions of Chemical Vapor Deposition Source Molecules on the Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by In Situ Fourier Transform Infared Spectroscopy
• Gas Phase Reactions in the MOCVD of (Ba, Sr)TiO_3 Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy
• Microdischarge Optical Emission Spectroscopy as a Novel Diagnostic Tool for Metalorganic Chemical Vapor Deposition of(Ba, Sr)TiO_3 Films
• Properties of Ferroelectric Memory FET Using Sr_2(Ta,Nb)_2O_7 Thin Film
• Application of Sr_2Nb_2O_7 Family Ferroelectric Films for Ferroelectric Memory Field Effect Transistor
• Study of Ferroelectric Materials for Ferroelectric Memory FET(Special Issue on Advanced Memory Devices Using High-ε and Ferroelectric Films)
• Properties of Ferroelectric Memory with Ir System Materials as Electrodes(Special Issue on Advanced Memory Devices Using High-ε and Ferroelectric Films)
• Fabrication Technology of Ferroelectric Memories
• Development of Low Dielectric Constant Ferroelectric Materials for the Ferroelectric Memory Feild Effect Transistor
• Fabrication Technology of Ferroelectric Memories
• Trapping of Multiply Charged Ta Ions produced by Laser Ablation in an Ion Trap
• Electroabsorption of Amphiphilic Tetrathiafulvalene Derivatives/7, 7, 8, 8-Tetracyano-2, 3, 5, 6-tetrafluorequinodimethane Systems in Langmuir-Blodgett Films
• Langmuir Layers and Langmuir-Blodgett Films of Bis-tetrathiafulvalene Annelated Macrocycle
• 4-5 ゾル-ゲル法による蛍光体の発光特性改善
• Langmuir-Blodgett Films of Charge-Transfer Complexes : Ethylenedithio-Substituted Amphiphilic Bis-TTF Macrocycle and F_4TCNQ or Br_2TCNQ
• Resonance-Enhanced Multiphoton Ionization Study of NO Scattering from a Corrugated Si(100) Surface with Oxygen Coverage
• A Molecular Beam Study of the Trapping and Desorption of Oxygen from Si(100) Surfaces
• Shallow p-Type Layers in Si by Rapid Vapor-Phase Doping for High-Speed Bipolar and MOS Applications (Special Issue on Ultra-High-Speed LSIs)
• Temperature Dependence of Desorption in Highly Photo-Excited CdS
• Behavior of Active and Inactive Boron in Si Produced by Vapor-Phase Doping during Subsequent Hydrogen Annealing
• Subquarter-Micrometer PMOSFET's with 50-nm Source and Drain Formed by Rapid Vapor-Phase Doping (RVD) (Special Issue on Quarter Micron Si Device and Process Technologies)
• The Origin of Dark Region in LPE GaP Associating with Macrostep Riser
• Characterization of SOS Films Grown with Amorphous Si Buffer Layers by MOS FET's
• Solute Redistribution in Laser Crystallization in Concentrated InAs-GaAs Alloy
• Quantum Paraelectricity in a Perovskite La_Na_TiO_3
• MEASUREMENT OF REACTION RATE COEFFICIENT OF LASER-EXCITED Ca^+ IONS WITH H_2O MOLECULES IN AN ION TRAP
• Laser-Microwave Double-Resonance Spectroscopy of Laser-Cooled ^9Be^+ Ions in a Weak Magnetic Field for Studying Unstable Be Isotopes
• Study on Pb-Based Ferroelectric Thin Films Prepared by Sol-Gel Method for Memory Application ( FERROELECTRIC MATERIALS AND THEIR APPLICATIONS)
• Preparation of Pb(Zr,Ti)O_3 Films on Pi/Ti/Ta Electrodes by Sol-Get Process
• Epitaxial Growth of SOS Films with Amorphous Si Buffer Layer
• Synthesis of Superconducting 2223 Compound in the Lead-Added Bi-Sr-Ca-Cu-O System
• Evidence of Sr-Deficiency in Bi_2Sr_Ca_1Cu_2O_8 and Preparation of Stoichiometric Semiconducting Bi_2Sr_2Ca_1Cu_2O_8
• Reproducible Processing for High-T_c Superconducting Tl-Ba-Ca-Cu-O-Phases : Electrical Properties of Condensed Matter
• High T_c Superconductivity in Screen Printed Yb-Ba-Cu-O Films
• Influence of Annealing Condition on the Superconducting Behavior of High-T_c Oxide (Ba_2Y)Cu_3O_
• The Effect of Substitution of La for Ba and Ce for Y on the T_c of Superconducting Ba_2YCu_3O_7
• 7)フッ化物薄膜EL素子の構造と発光特性(情報ディスプレイ研究会)
• フッ化物薄膜EL素子の構造と発光特性 : 情報ディスプレイ
• フッ化物薄膜EL素子の構造と発光特性
• New Types of Photochemical Switching Phenomena in Langmuir-Blodgett Films
• Pulsed-Laser Induced Desorption in GaAs :A Dynamic Pulse Mass Counting Study
• Conducting Langmuir-Blodgett Films of Bis[bis(methylthio)tetrathiafulvalenedithiolate]-gold Complex
• Temperature dependence of band gap energies of GaAsN alloys
• Organic nanodots of a cation radical salt of amphiphilic bis-TTF annulated macrocycle
• Electrical Properties of Pb(Zr, Ti)O_3 Thin Film Capacitors on Pt and Ir Electrodes
• Preparation of Pb(Zr, Ti)O_3 Thin Films on Ir and IrO_2 Electrodes ( FERROELECTRIC MATERIALS AND THEIR APPLICATIONS)
• Alkali-Metal Doping of Langmuir-Blodgett Films of C_ Studied by ESR
• Flow Orientation in Langmuir-Blodgett Films of a Charge-Transfer Complex (TMTTF)_3(C_TCNQ)_2
• Dielectric Behavior of (1-x)LaAlO_3-xSrTiO_3 Solid Solution System at Microwave Frequencies
• Micro-Patterning of PbZr_xTi_O_3 Thin Films Prepared by Photo Sensitive Sol-Get Solution
• Structures and Electrical Properties of (BTM-TS-TTP)_4PF_6
• Ionicity Phase Diagram of Trifluoromethyl-TCNQ (CF_3TCNQ) Charge-Transfer Solids
• Properties of Ferroelectric Memory FET Using Sr_2(Ta,Nb)_2O_7 Thin Film
• Surface Analysis of C-Axis-Oriented YBa_2Cu_3O_ Thin Films by QMS, XPS and LEED: Effects of In-Vacuum Annealing
• Madelung Constant of the Tetragonal K_2NiF_4 Type Oxides
• 28p-PS-14 Change of Electronic Properties of BaSnO_3 in Substitution of Sb for Sn
• Effects of Oxygen Concentration on Growth of Bi_4Ti_3O_ Thin Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition ( FERROELECTRIC MATERIALS AND THEIR APPLICATIONS)
• Preparation of C-Axis-Oriented Bi_4Ti_3O_ Thin Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition
• Quasi One-Dimensional Spin System in Langmuir-Blodgett Films of a Charge-Transfer Complex
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