Uniform Electron Cyclotron Resonance Plasma Generation for Precise ULSI Patterning

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1992-06-15

著者

• SAMUKAWA Seiji

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo Jpn

• NAKAMURA Tsuyoshi

  Mechatronics Research Laboratry, Functional Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• ISHIDA Toshinori

  Mechatronics Research Laboratry, Functional Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• SAMUKAWA Seiji

  VLSI Development Division, NEC Corporation

• ISHITANI Akihiko

  VLSI Development Division, NEC Corporation

• Ishida Tadashi

  National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology

• Samukawa S

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• Samukawa Seiji

  Process Development Department Vlsi Development Division Nec Corporation

• Samukawa Seiji

  Vlsi Development Div. Nec Corporation

• Ishida Toshimasa

  Research Laboratory Oki Electric Industry Co. Lid

• Ishida Takayuki

  Department Of Radiology National Federation Of Health Insurance Societies Osaka Chuo Hospital

• Ishida T

  Department Of Physics Faculty Of Science Ibaraki University

• Nakamura Tetsuro

  Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology

• Nakamura Tsuyoshi

  Mechatronics Research Laboratry Functional Devices Research Laboratories Nec Corporation

• Nakamura Toshihiko

  Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

• Ishitani A

  O Ntt Atsugi R&d Center:(permanant Address)semiconductor Company Matsushita Electronics Corporat

• Ishitani Akihiko

  Vlsi Development Division Nec Corporation

• Nakamura Tsuyoshi

  Mechatronics Research Laboratory Nec Corporation

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