Fabrication of Defect-Free Sub-10nm Si Nanocolumn for Quantum Effect Devices Using Cl Neutral Beam Process

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概要

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• 2005-09-13

著者

• SAMUKAWA Seiji

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• Chen Jem-kun

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

• Yamashita Ichiro

  Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology

• 浦岡 行治

  奈良先端科学技術大学院大

• URAOKA Yukiharu

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• FUYUKI Takashi

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• KUBOTA Tomohiro

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• FUYUKI Takashi

  Nara Institute of Science and Technology

• YAMASHITA Ichiro

  Nara Institute of Science and Technology

• Samukawa Seiji

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

• YAMASAKI Satoshi

  Diamond Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• Fuyuki Takashi

  Graduate School Of Material Science Nara Institute Of Science And Technology

• Yamashita Ichiro

  Crest Japan Science And Technology Agency

• Yamasaki Satoshi

  Diamond Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Aist

• Yamasaki Satoshi

  Diamond Research Center National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)

• Uraoka Yukiharu

  Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology

• Fuyuki Takashi

  Nara Inst. Sci. And Technol. Nara Jpn

• Kubota Tomohiro

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

• SAMUKAWA Seiji

  CREST, Japan Science and Technology Agency

• Samukawa Seiji

  Crest Japan Science And Technology Agency

• Uraoka Yukiharu

  Graduate School of Material Science, Nara Institute of Science and Technology, Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, Japan

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