浦岡 行治 | 奈良先端科学技術大学院大

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概要

• 浦岡 行治の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 奈良先端科学技術大学院大の論文著者

関連著者

• 浦岡 行治

  奈良先端科学技術大学院大

• 冬木 隆

  奈良先端科学技術大学院大

• 冬木 隆

  奈良先端科学技術大学院大学

• 畑山 智亮

  Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology

• 畑山 智亮

  奈良先端科学技術大学院大学

• 安田 幸夫

  名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所

• 浦岡 行治

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 浦岡 行治

  奈良先端大:crest

• 矢野 裕司

  奈良先端科学技術大学院大学

• 矢野 裕司

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 山下 一郎

  奈良先端科学技術大学院大学:パナソニック

• 山下 一郎

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• URAOKA Yukiharu

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• FUYUKI Takashi

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• FUYUKI Takashi

  Nara Institute of Science and Technology

• Yano H

  Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology

• 堀田 昌宏

  奈良先端大

• Yamashita Ichiro

  Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology

• 石河 泰明

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 浦岡 行治

  奈良先端大

• YANO Hiroshi

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• HATAYAMA Tomoaki

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• 上沼 睦典

  奈良先端科学技術大学院大学

• 田口 信義

  (有)イメージテック

• URAOKA Yukiharu

  Nara Institute of Science and Technology

• Yano Hiroshi

  Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology

• 川村 哲也

  松下電器産業株式会社液晶事業部

• 川村 哲也

  松下電器産業(株)中央研究所

• 川村 哲也

  阪大基礎工

• 土橋 友次

  松下電器産業株式会社液晶事業部

• 小原 孝介

  奈良先端科学技術大学院大学

• YAMASHITA Ichiro

  Nara Institute of Science and Technology

• 川村 哲也

  大阪大学基礎工学部物性分野

• 市川 和典

  神戸市立工業高等専門学校

• 笹田 浩介

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• YOSHII Shigeo

  Advanced Technology Research Laboratories, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• SUGAWARA Yuta

  Nara Institute of Science and Technology

• YANO Hiroshi

  Nara Institute of Science and Technology

• HATAYAMA Tomoaki

  Nara Institute of Science and Technology

• MIURA Atsushi

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• 山下 一郎

  松下電器産業(株)先端技術研究所

• 上沼 睦典

  奈良先端大

• 高橋 英治

  日新電機株式会社

• SAMUKAWA Seiji

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• 吉丸 正樹

  半導体理工学研究センター

• 緒方 潔

  日新電機株式会社

• 梅野 智和

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 八重樫 利武

  半導体理工学研究センター

• 茂庭 昌弘

  半導体理工学研究センター

• 藤井 茉美

  奈良先端科学技術大学院大学

• 菅原 祐太

  奈良先端科学技術大学院大学

• 三浦 篤志

  奈良先端科学技術大学院大学

• Sameshima Toshiyuki

  Tokyo University Of Agriculture And Technology

• Samukawa Seiji

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

• 北島 浩司

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 森田 幸弘

  松下電器産業株式会社ディスプレイデバイス開発センター

• 中川 未浩

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 河北 哲郎

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 彦野 太樹夫

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• PUNCHAIPETCH Prakaipetch

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• MIURA Atsushi

  Division of Chemistry, Graduate School of Science, Hokkaido University

• Matsumura Takashi

  High Voltage Electron Microscopy Station National Institute For Materials Science

• 河北 哲郎

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 佐々木 実

  豊田工業大学

• 古田 守

  松下電器産業株式会社液晶事業部

• 武田 大輔

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 熊谷 慎也

  豊田工業大学

• 山下 一郎

  奈良先端大・物質:panasonic・先端研

• 長野 奈津代

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 茂庭 昌弘

  (株)ルネサステクノロジ

• 西田 貴司

  奈良先端大

• 山本 幸枝

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 石河 泰明

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 岡本 大

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• Jung Ji

  サムスン綜合技術院

• Kwon Jang

  サムスン綜合技術院

• 向 正人

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 市川 和典

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• パンチャイペッチ P.

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 林 司

  日新電機株式会社

• 堀田 将

  北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科

• 山本 幸枝

  (株)nttドコモ ネットワーク開発部

• 山本 幸枝

  金沢大学大学院自然科学研究科電子情報システム専攻

• 松江 将博

  神戸市立工業高等専門学校

• 赤松 浩

  神戸市立工業高等専門学校

• HUANG Chi-Hsien

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• IGARASHI Makoto

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• NISHIOKA Kensuke

  School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology

• TAKEGUCHI Masaki

  High Voltage Electron Microscopy Station, National Institute for Materials Science

• KUBOTA Tomohiro

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• 山崎 浩司

  奈良先端科学技術大学院 大学情報科学研究科

• Takeguchi Masaki

  High Voltage Electron Microscopy Station National Institute For Materials Science

• 吉井 重雄

  奈良先端科学技術大学院大学:パナソニック

• 今奥 崇夫

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• KUMAGAI Shinya

  Advanced Technology Research Laboratories, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• YAMADA Kiyohito

  Advanced Technology Research Laboratories, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• YAMASHITA Ichiro

  Advanced Technology Research Laboratories, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• 桐村 浩哉

  日新電機株式会社技術開発研究所

• YAMADA Kiyohito

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• Morita Yukinori

  Joint Research Center For Atom Technology (jrcat):national Institute Of Advanced Industrial Science

• Igarashi Makoto

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

• Nishioka Kensuke

  School Of Materials Science Japan Advanced Institute Of Science And Technology

• Sameshima Toshiyuki

  Tokyo A&t University

• 大野 孝幸

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 木村 秀夫

  物質・材料研究機構

• 西田 貴司

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 西田 貴司

  奈良先端大物質創成

• 内山 潔

  奈良先端大物質創成

• 加藤 健介

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 旭 健史郎

  奈良先端大

• 布施 和志

  奈良先端大

• 米田 安宏

  原子力機構

• 田村 和久

  原子力機構

• 松村 大樹

  原子力機構

• 木村 秀夫

  物材研

• 木村 秀夫

  物材機構

• 米田 安宏

  原子力機構・放射光科学研究ユニット

• 播磨 弘

  京都工芸繊維大学工芸学部

• Chen Jem-kun

  Institute Of Fluid Science Tohoku University

• 美濃 規央

  「応用物理」編集委員会

• 木村 秀夫

  NIMS

• 美濃 規央

  松下電子工業(株)半導体研究所

• 美濃 規央

  松下電器産業株式会社

• 東名 敦志

  日新電機株式会社

• Mino Norihisa

  Living Environment Development Center Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.

• Mino Norihisa

  Central Research Laboratories Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.

• 芹川 正

  東京大学先端科学技術研究センター

• 山田 啓文

  京都大学 大学院工学研究科

• 入船 裕行

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 内山 潔

  奈良先端大

• 川野 健太郎

  奈良先端科学技術大学院大学

• 吉井 重雄

  奈良先端科学技術大学院大学

• 大城 ゆき

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 岸山 友紀

  奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科

• 高橋 優

  奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科

• 大鐘 章義

  奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科

• Kitiyanan Athapol

  奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科

• 越知 誠弘

  奈良先端科学技術大学院大学

• 田中 亮大

  奈良先端科学技術大学院大学

• 南条 泰弘

  奈良先端科学技術大学院大学

• 奥田 光宏

  奈良先端科学技術大学院大学

• 松村 貴志

  奈良先端科学技術大学院大学

• 吉井 重雄

  松下電気産業株式会社

• 山下 一郎

  松下電気産業株式会社

• OKAMOTO Dai

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• OSHIRO Yuki

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• HASHIMOTO Takeshi

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• MATSUMURA Takashi

  Nara Institute of Science and Technology

• MIURA Atsushi

  Nara Institute of Science and Technology

• YOSHII Shigeo

  Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• 小林 祐輔

  奈良先端大物質創成科学研究科

• 須崎 昌己

  大阪府立高専総合工学システム学科

• 中村 敦

  奈良先端科学技術大学院 大学物質創成科学研究科

• 山崎 努

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• Jung Ji

  Sumsung Advanced Institute Of Technology

• Yamamoto Y

  College Of Engineering Hosei University

• Kim Jong

  Sumsung Advanced Institute Of Technology

• Yamamoto Yuichi

  Division Of Electronic And Information Engineering Faculty Of Technology Tokyo University Of Agricul

• YAMASAKI Satoshi

  Diamond Research Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)

• Yamamoto Y

  Nippon Steel Corp. Kawasaki Jpn

• Ochi Masahiro

  Nara Institute Of Science And Technology

• 佐々木 実

  豊田工大

• 熊谷 慎也

  豊田工大

• 川野 健太郎

  奈良先端科学技術大学院大学:crest Jst

• HAYASHI Tsukasa

  Nissin Electric Co.

• Yamamoto Y

  Nara Inst. Sci. And Technol. Nara Jpn

• Hayashi Tsukasa

  Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories

• 堀井 貞義

  (株)日立国際電気

• 橋本 伸一郎

  松下電器産業株式会社ディスプレイデバイス開発センター

• 宮下 誠

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 中村 秀碁

  奈良先端科学技術大学院大学

• パンチャイペッチ プラカイペッチ

  奈良先端科学技術大学院大学

• 堀井 貞義

  日立国際電気

• 岡本 武士

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 久保田 清

  日新電機株式会社技術開発研究所

• 岸田 茂明

  日新電機株式会社技術開発研究所

• 木村 秀夫

  物質・材料研究機構応用結晶科学グループ

• 川嶋 宏之

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 山田 圭佑

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 山崎 玄

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• UENO Hitoshi

  Nara Institute of Science and Technology

• PARK Kyung

  Sumsung Advanced Institute of Technology

• KWON Jang

  Sumsung Advanced Institute of Technology

• NOGUCHI Takashi

  University of the Ryukyus

• MIMURA Akio

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• MIYASHITA Makoto

  Nara Institute of Science and Technology

• HIKONO Takio

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• MATSUMURA Takashi

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• ICHIKAWA Kazunori

  Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology

• TAKAHASHI Eiji

  Nissin Electric Co., Ltd. Process Research Center R&D Laboratories

• OGATA Kiyoshi

  Nissin Electric Co., Ltd. Process Research Center R&D Laboratories

• Punchaipetch Prakaipetch

  Nara Institute of Science and Technology

• Nakamura Hideki

  Nara Institute of Science and Technology

• Horii Sadayoshi

  Hitachi Kokusai Electric Inc.

• MORITA Yukihiro

  Devices Development Center, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• Morita Yukihiro

  Matsushita Electric Industrial Co. Ltd.

• NANJO Yasuhiro

  Nara Institute of Science and Technology

• OKUDA Mitsuhiro

  Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

• Yamamoto Yoshitugu

  Department Of Chemistry For Materials Faculty Of Engineering Mie University

• 森田 幸弘

  松下電気産業ディスプレイデバイス開発センター

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著作論文

• 21aPS-95 斜入射スパッタ法によるPbTiO_3の自己組織化ナノ結晶アレイの作製と評価(21aPS 領域10ポスターセッション(誘電体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 擬三次元シミュレーションによる多結晶シリコン薄膜太陽電池の動作解析(半導体Si及び関連電子材料評価)
• 単結晶シリコン薄膜太陽電池のシミュレーショシによる最適化設計(半導体Si及び関連電子材料評価)
• ダイナミックストレスに対するp型低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性評価
• バイオナノドットを用いた極薄トンネル酸化膜デバイスの電気特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
• フェリチンタンパク質により形成したナノ粒子の抵抗変化メモリ応用 : 金属ナノ粒子による伝導パスの制御(ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• グリーンレーザによる積層シリコンの結晶化--次世代ディスプレイの実現を目指して (特集 レーザ・光学系と大型液晶パネルプロセス)
• NO直接酸化法により作製したC面上4H-SiC MOSデバイスの特性(シリコン関連材料の作製と評価)
• High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ(ゲート絶縁膜形成およびメモリ技術,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• Ga_2O3-In_2O_3-ZnO(GIZO)薄膜を用いた薄膜トランジスタの劣化(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
• フェリチンタンパクを利用したシリコン薄膜のバイオ結晶化法 (オプトロニクス 石油代替・ナノバイオ材料の可能性,「薄く」,「しなやか」な物性が得られる--FPD用部材における「バイオマス資源・タンパク質材料」の応用・採用の技術トレンド)
• 4H-SiC nMOSFETおよびpMOSFETに対するチャージポンピング測定(シリコン関連材料の作製と評価)
• シリコン太陽電池用SiN_xパッシベーション膜におけるNH_3プラズマ界面改質効果(シリコン関連材料の作製と評価)
• パルス急速熱処理によるNi内包フェリチンを用いた結晶成長速度の向上(シリコン関連材料の作製と評価)
• 高圧水蒸気処理によるSiO_2/4H-SiC界面改質とMOSFET特性(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
• ナノテクMOVEMENTS(VOL.11)タンパク超分子を用いたシリコン薄膜の低温結晶化
• 走査型プローブ顕微鏡を用いた単一バイオナノドットの電気特性解析(シリコン関連材料の作製と評価)
• 高圧水蒸気熱処理したSiO_2/4H-SiC界面特性の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
• Ni内包フェリチンタンパク質を用いた多結晶シリコンの大粒径化(シリコン関連材料の作製と評価)
• フェリチンタンパク質コアの非晶質Si薄膜中熱処理による還元(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 技術トピック Niナノ粒子を内包したフェリチンのシリコン非晶質薄膜の結晶化
• シリコンナノ界面制御による光電極動作の理論解析 (特集 太陽エネルギー変換の最近動向)
• Material Report R&D バイオを用いたプロセス:バイオナノコアによるアモルファスシリコン膜の結晶化
• シリコンナノクリスタルドットの形成(半導体Si及び関連材料・評価)
• ダイナミックストレスに対するp型低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性評価
• 低温ポリシリコンTFTにおけるホットキャリア効果
• 低温ポリシリコンTFTにおけるダイナミックストレスに対する信頼性
• 低温ポリシリコンTFTにおけるダイナミックストレスに対する信頼性
• フェリチンタンパクを利用したシリコン薄膜の結晶化法 (特集 エレクトロニクスデバイスを支える高分子材料,技術)
• 生体超分子を用いた高機能化ナノシステム : シリコン薄膜の低温結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• 生体超分子を用いた高機能化ナノシステム : シリコン薄膜の低温結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• 生体超分子を用いた高機能化ナノシステム--シリコン薄膜の低温結晶化 (有機エレクトロニクス)
• 生体超分子を用いた高機能化ナノシステム--シリコン薄膜の低温結晶化 (シリコン材料・デバイス)
• バイオの技術を応用した新しい半導体デバイスの研究
• 三次元基板のグリーンレーザー結晶化によるLTPS TFTフラッシュメモリの特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
• High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• Investigation of Near-Interface Traps Generated by NO Direct Oxidation in C-face 4H-SiC Metal-Oxide-Semiconductor Structures
• Novel Stacked Nanodisk with Quantum Effect Fabricated by Defect-free Chlorine Neutral Beam Etching
• A New Silicon Quantum-Well Structure with Controlled Diameter and Thickness Fabricated with Ferritin Iron Core Mask and Chlorine Neutral Beam Etching
• Reduction of a Ferritin Core Embedded in Silicon Oxide Film for An Application to Floating Gate Memory
• マイクロ波焼成によるZnS系無機EL蛍光体の発光特性の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
• Aluminum Induced Crystallization法を利用した多結晶Si薄膜の形成と評価
• 電子線起電流法による薄膜多結晶Si太陽電池の接合評価
• 低温多結晶シリコン薄膜トランジスタにおける信頼性評価技術(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
• 低温多結晶シリコン薄膜トランジスタにおける信頼性評価技術(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
• 低温多結晶シリコン薄膜トランジスタにおける信頼性評価技術(半導体表面・界面制御と電子デバイスの信頼性, 信頼性一般)
• 低温Poly-Si TFTにおける発熱劣化の解析(シリコン関連材料の作製と評価)
• 極薄ゲートSiO_2膜Poly-Si CMOSトランジスタのホットキャリア劣化(シリコン関連材料の作製と評価)
• フェリチンタンパクのSi基板への直接吸着(半導体Si及び関連材料・評価)
• フェリチンタンパク質を用いたナノデバイスの作製
• ナノカラム作製のための金属タンパク質の配列制御
• Side-Wall電極型PECVDによるSiナノドットメモリ(シリコン関連材料の作製と評価)
• 窒素励起活性種を用いたPLD-HfSixOy膜への窒素導入 : Hfの組成と窒素プロファイルの制御(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 励起活性種を用いた極薄シリコン窒化膜の低温形成と構造解析(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 励起活性種を用いた極薄ゲート酸窒化膜の低温形成
• Gate-Overlapped LDD構造をもつ低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性評価
• Gate-Overlapped LDD構造をもつ低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性評価
• Gate-Overlapped LDD構造をもつ低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性評価
• SC-8-12 Reliability of Low-Temperature Poly-Si Thin Film Transistors under Dynamic Stress
• 水素ラジカル励起と高密度・低ポテンシャルプラズマを用いた低温ポリシリコン成膜技術 : 成長初期段階の結晶化シリコン成膜・評価技術(半導体Si及び関連材料・評価)
• Reliability Analysis of Ultra Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors
• Crystallization of Double-Layered Silicon Thin Films by Solid Green Laser Annealing
• Crystallinity evaluation by microwave photoconductivity decay in double-layered polycrystalline silicon thin films crystallized by solid green laser annealing
• Low temperature polycrystalline silicon thin film transistors flash memory with silicon nanocrystal dot
• Evaluation of Crystallinity in 4H-SiC{0001} Epilayers Thermally Etched by Chlorine and Oxygen System
• Improvement of Reliability in Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors by Water Vapor Annealing
• Floating Nanodot Gate Memory Devices Based on Biomineralized Inorganic Nanodot Array as a Storage Node
• Electron Injection into Si Nanodot Fabricated by Side-Wall Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
• High pressure water vapor annealing for improving HfSiO dielectrics properties
• Gate Length Dependence of Hot Carrier Reliability in Low-Temperature Polycrystatline-Silicon P-Channel Thin Film Transistors
• Low Temperature Nitridation of Si Oxide Utilizing Activated Nitrogen(Semiconductors)
• Comprehensive Study on Reliability of Low-Temperature Poly-Si Thin-Film Transistors under Dynamic Complimentary Metal-Oxide Semiconductor Operations
• Floating Gate MOS Capacitor with High-Density Nanodots Array Produced by Protein Supramolecule
• Enhancement of crystal growth rate of Bio-Nano Crystallization by Pulsed Rapid Thermal Annealing
• High-Density Floating Nanodots Memory Produced by Cage-Shaped Protein
• Fabrication of Defect-Free Sub-10nm Si Nanocolumn for Quantum Effect Devices Using Cl Neutral Beam Process
• Ga_2O_3-In_2O_3-ZnO(GIZO)薄膜を用いた薄膜トランジスタの劣化(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
• デバイスシミュレーションによる低温ポリシリコンTFTの動作/信頼性解析
• デバイスシミュレーションによる低温ポリシリコンTFTの動作/信頼性解析
• Si量子ドットを用いたフローティングゲートメモリ : PECVD法を用いたSiナノドットへの電子注入(半導体Si及び関連材料・評価)
• シリコン界面ナノ制御による光電極動作のシミュレーション(半導体Si及び関連材料・評価)
• Suppression of Self-Heating in Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transitors
• Low-temperature polycrystalline silicon thin film transistor flash memory with ferritin
• Improving High-κ Gate Dielectric Properties by High-Pressure Water Vapor Annealing
• システムオンパネルをめざした低温ポリシリコン薄膜トランジスタ--LTPS-TFTの現状と課題 (FPD製造装置小特集)
• NH_3 Plasma Pretreatment of 4H-SiC(0001) Surface for Reduction of Interface States in Metal-Oxide-Semiconductor Devices
• 窒素励起活性種を用いたシリコン酸化膜の低温窒化
• 窒素励起活性種を用いたシリコン酸化膜の低温窒化
• 窒素励起活性種を用いたシリコン酸化膜の低温窒化
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• Passivation Effect of Plasma Chemical Vapor Deposited SiNx on Single-Crystalline Silicon Thin-Film Solar Cells
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製
• 多結晶シリコン薄膜トランジスタの新規作製技術ならびに解析技術
• 裏面からのレーザー照射による2層同時結晶化LTPS-TFTメモリの特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
• 高圧水蒸気熱処理によるa-In_2Ga_2Zn_1O_7 TFTの特性改善効果(シリコン関連材料の作製と評価)
• 蛍光体粉末の微粒化処理によるZnS無機ELの発光特性の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
• p-チャネル低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性
• T1602-3-1 MEMS用Si薄膜材料の内部応力増強に向けたNiフェリチンを用いた金属誘起横方向結晶成長([T1602-3]マイクロナノ理工学:nmからmmまでの表面制御とその応用(3))
• Floating Gate Memory with Biomineralized Nanodots Embedded in High-$k$ Gate Dielectric
• Rear Side Passivated Monocrystalline Silicon Thin Film Solar Cells with Laser Fired Contact Process
• グリーンレーザーによる積層構造シリコン薄膜の同時結晶化と薄膜デバイスへの応用(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• Three-Dimensional Nanodot-Type Floating Gate Memory Fabricated by Bio-Layer-by-Layer Method
• 1S3p03 バイオナノプロセス技術による光触媒素子構築へ向けて(グリーンバイオ電子デバイス(g-BED)創製への挑戦,ワークショップ)
• 1S3p05 生体超分子を利用した次世代情報機能素子の研究(グリーンバイオ電子デバイス(g-BED)創製への挑戦,ワークショップ)
• ZnS系無機EL蛍光体の発光特性に対する高圧水蒸気熱処理の効果(シリコン関連材料の作製と評価)
• ゲル-ナノインプリントプロセスによるZnO-2次元フォトニック結晶の作製(シリコン関連材料の作製と評価)
• ダイナミックストレスによる低温ポリシリコンTFTの信頼性評価(半導体Si及び関連電子材料評価)
• 平面電極を用いた分散型無機ELパネルの基本特性(シリコン関連材料の作製と評価)
• Ti電極上コバルトナノ粒子の位置選択性制御(シリコン関連材料の作製と評価)
• 平面電極を用いた分散型無機ELパネルの基本特性
• ゲルーナノインプリントプロセスによるZnO-2次元フォトニック結晶の作製
• バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
• リステリアDpsを利用したナノドット型フローティングゲートメモリの作製(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ
• ポータープロテインによる金ナノ粒子配置プロセスとそのプラズモン特性(シリコン関連材料の作製と評価)
• シリコン酸化膜中に埋め込んだバイオナノ粒子の抵抗変化メモリ効果(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• リステリアDpsを利用したナノドット型フローティングゲートメモリの作製
• バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御
• バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御
• バイオナノ粒子を用いたSi薄膜結晶化技術のMEMSへの応用

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