浦岡 行治 | 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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概要
関連著者
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大学
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大
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畑山 智亮
Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology
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畑山 智亮
奈良先端科学技術大学院大学
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安田 幸夫
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所
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山下 一郎
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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奈良先端科学技術大学院大学:パナソニック
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矢野 裕司
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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川村 哲也
松下電器産業株式会社液晶事業部
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川村 哲也
松下電器産業(株)中央研究所
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川村 哲也
阪大基礎工
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土橋 友次
松下電器産業株式会社液晶事業部
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川村 哲也
大阪大学基礎工学部物性分野
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三浦 篤志
奈良先端科学技術大学院大学
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吉丸 正樹
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古田 守
松下電器産業株式会社液晶事業部
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武田 大輔
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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長野 奈津代
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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梅野 智和
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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茂庭 昌弘
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山本 幸枝
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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石河 泰明
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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上沼 睦典
奈良先端科学技術大学院大学
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岡本 大
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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小原 孝介
奈良先端科学技術大学院大学
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八重樫 利武
半導体理工学研究センター
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茂庭 昌弘
半導体理工学研究センター
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石河 泰明
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科
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山本 幸枝
(株)nttドコモ ネットワーク開発部
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山本 幸枝
金沢大学大学院自然科学研究科電子情報システム専攻
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市川 和典
神戸市立工業高等専門学校
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吉井 重雄
奈良先端科学技術大学院大学:パナソニック
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吉丸 正樹
半導体理工学センター (starc)
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石河 泰明
奈良先端科学技術大学院大学
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吉丸 正樹
半導体理工学センター
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上沼 睦典
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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石河 泰明
奈良先端科技大:CREST-JST
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浦岡 行治
奈良先端大物質創成科学研究科
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上沼 睦典
大阪大学大学院工学研究科
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加藤 健介
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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上沼 睦典
奈良先端大
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高橋 英治
日新電機株式会社
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緒方 潔
日新電機株式会社
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播磨 弘
京都工芸繊維大学工芸学部
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東名 敦志
日新電機株式会社
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入船 裕行
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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川野 健太郎
奈良先端科学技術大学院大学
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吉井 重雄
奈良先端科学技術大学院大学
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大城 ゆき
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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藤井 茉美
奈良先端科学技術大学院大学
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Kwon Jang
サムスン綜合技術院
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奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科
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高橋 優
奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科
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大鐘 章義
奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科
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Kitiyanan Athapol
奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)物質創成科学研究科
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越知 誠弘
奈良先端科学技術大学院大学
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菅原 祐太
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田中 亮大
奈良先端科学技術大学院大学
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南条 泰弘
奈良先端科学技術大学院大学
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奥田 光宏
奈良先端科学技術大学院大学
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松村 貴志
奈良先端科学技術大学院大学
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向 正人
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市川 和典
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奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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林 司
日新電機株式会社
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松江 将博
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赤松 浩
神戸市立工業高等専門学校
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川野 健太郎
奈良先端科学技術大学院大学:crest Jst
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京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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播磨 弘
京都工芸繊維大学
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播磨 弘
京都工芸繊維大学 工芸学部
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赤松 浩
神戸市工高専
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パンチャイペッチ プラカイペッチ
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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鄭 彬
奈良先端科技大:crest-jst
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鄭 彬
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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番 貴彦
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大学:CREST JST
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上沼 睦典
奈良先端科学技術大学院大学:CREST JST
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鄭 彬
奈良先端科学技術大学院大学:CREST JST
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鄭 彬
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科:CREST JST
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番 貴彦
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科
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鄭 彬
奈良先端科学技術大学院大学
著作論文
- 擬三次元シミュレーションによる多結晶シリコン薄膜太陽電池の動作解析(半導体Si及び関連電子材料評価)
- 単結晶シリコン薄膜太陽電池のシミュレーショシによる最適化設計(半導体Si及び関連電子材料評価)
- ダイナミックストレスに対するp型低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性評価
- バイオナノドットを用いた極薄トンネル酸化膜デバイスの電気特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
- フェリチンタンパク質により形成したナノ粒子の抵抗変化メモリ応用 : 金属ナノ粒子による伝導パスの制御(ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- NO直接酸化法により作製したC面上4H-SiC MOSデバイスの特性(シリコン関連材料の作製と評価)
- High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ(ゲート絶縁膜形成およびメモリ技術,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Ga_2O3-In_2O_3-ZnO(GIZO)薄膜を用いた薄膜トランジスタの劣化(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
- 4H-SiC nMOSFETおよびpMOSFETに対するチャージポンピング測定(シリコン関連材料の作製と評価)
- シリコン太陽電池用SiN_xパッシベーション膜におけるNH_3プラズマ界面改質効果(シリコン関連材料の作製と評価)
- パルス急速熱処理によるNi内包フェリチンを用いた結晶成長速度の向上(シリコン関連材料の作製と評価)
- 高圧水蒸気処理によるSiO_2/4H-SiC界面改質とMOSFET特性(ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- 走査型プローブ顕微鏡を用いた単一バイオナノドットの電気特性解析(シリコン関連材料の作製と評価)
- 高圧水蒸気熱処理したSiO_2/4H-SiC界面特性の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
- Ni内包フェリチンタンパク質を用いた多結晶シリコンの大粒径化(シリコン関連材料の作製と評価)
- フェリチンタンパク質コアの非晶質Si薄膜中熱処理による還元(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- シリコンナノクリスタルドットの形成(半導体Si及び関連材料・評価)
- ダイナミックストレスに対するp型低温ポリシリコン薄膜トランジスタの信頼性評価
- 低温ポリシリコンTFTにおけるホットキャリア効果
- 低温ポリシリコンTFTにおけるダイナミックストレスに対する信頼性
- 低温ポリシリコンTFTにおけるダイナミックストレスに対する信頼性
- 生体超分子を用いた高機能化ナノシステム : シリコン薄膜の低温結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- 生体超分子を用いた高機能化ナノシステム : シリコン薄膜の低温結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
- 三次元基板のグリーンレーザー結晶化によるLTPS TFTフラッシュメモリの特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
- High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)