岡本 大 | 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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概要
関連著者
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大学
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畑山 智亮
奈良先端科学技術大学院大学
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矢野 裕司
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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岡本 大
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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畑山 智亮
Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology
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安田 幸夫
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所
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矢野 裕司
奈良先端科学技術大学院大学
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大
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平田 憲司
奈良先端科学技術大学院大学物質創生科学研究科
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大
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大城 ゆき
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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平田 憲司
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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平田 憲司
奈良先端科学技術大学院大学
著作論文
- 4H-SiC MOS界面へのリンの導入による界面準位密度の低減 (シリコン材料・デバイス)
- NO直接酸化法により作製したC面上4H-SiC MOSデバイスの特性(シリコン関連材料の作製と評価)
- 4H-SiC nMOSFETおよびpMOSFETに対するチャージポンピング測定(シリコン関連材料の作製と評価)
- 4H-SiC MOS界面へのリンの導入による界面準位密度の低減(シリコン関連材料の作製と評価)