林 司 | 日新電機株式会社
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概要
関連著者
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林 司
日新電機株式会社
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竹内 大智
名古屋大学大学院工学研究科
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可貴 裕和
日新電機株式会社
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宮崎 誠一
名古屋大学 大学院工学研究科
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池田 弥央
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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牧原 克典
名古屋大学 大学院工学研究科
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宮崎 誠一
名古屋大学大学院工学研究科
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牧原 克典
広大院先端研
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池田 弥央
広大院先端研
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宮崎 誠一
広大院先端研
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池田 弥央
広島大学大学院先端物質科学研究科
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宮崎 誠一
広大
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牧原 克典
名古屋大学大学院工学研究科
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大学
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高橋 英治
日新電機株式会社
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畑山 智亮
Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology
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畑山 智亮
奈良先端科学技術大学院大学
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緒方 潔
日新電機株式会社
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安田 幸夫
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所
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矢野 裕司
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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向 正人
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
市川 和典
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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パンチャイペッチ P.
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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矢野 裕司
奈良先端科学技術大学院大学
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大
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市川 和典
神戸市立工業高等専門学校
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パンチャイペッチ プラカイペッチ
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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播磨 弘
京都工芸繊維大学工芸学部
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東名 敦志
日新電機株式会社
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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播磨 弘
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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播磨 弘
京都工芸繊維大学
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播磨 弘
京都工芸繊維大学 工芸学部
著作論文
- シリコンナノクリスタルドットの形成(半導体Si及び関連材料・評価)
- Side-Wall電極型PECVDによるSiナノドットメモリ(シリコン関連材料の作製と評価)
- 低温多結晶シリコン成膜技術を用いた新規デバイス応用
- 柱状Siナノ構造における局所電気伝導と電子放出特性評価(酸化物(成膜・評価).電子源,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 柱状Siナノ構造における局所電気伝導と電子放出特性評価(酸化物(成膜・評価).電子源,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 柱状Siナノ構造における局所電気伝導と電子放出特性評価(酸化物(成膜・評価).電子源,結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 柱状Siナノ構造における局所電気伝導と電子放出特性評価
- 柱状Siナノ構造における局所電気伝導と電子放出特性評価
- 柱状Siナノ構造における局所電気伝導と電子放出特性評価