パルス急速熱処理によるNi内包フェリチンを用いた結晶成長速度の向上(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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我々はこれまでにNi内包フェリチンを用いて高品質のシリコン薄膜の結晶化に成功している。本研究では結晶化時間の短縮を目的として短時間にパルス状に温度変化させた急速熱処理方法(PRTA)に注目して結晶化を試みた。PRTAを用いることで結晶化時間の大幅な短縮が可能となり、フェリチン溶液濃度を最適化することで、平均粒径が5μmを超える結晶粒のpoly-Si薄膜を形成することができた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-12-07
著者
-
冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大学
-
安田 幸夫
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所
-
浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
山下 一郎
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
-
越知 誠弘
奈良先端科学技術大学院大学
-
菅原 祐太
奈良先端科学技術大学院大学
-
三浦 篤志
奈良先端科学技術大学院大学
-
冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大
-
浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大
-
山下 一郎
奈良先端科学技術大学院大学:パナソニック
-
山下 一郎
奈良先端科学技術大学院大学
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