酸素活性種を用いた高品質極薄SiO_2膜の形成とMOSFETへの応用(関西支部研究例会の講演要旨(平成9年度第1回))
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概要
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- 1997-06-20
著者
-
冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大学
-
松波 弘之
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
松波 弘之
京大工
-
松波 弘之
京都大学大学院工学研究科
-
冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大
-
二山 拓也
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
-
二山 拓也
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
小池 貴夫
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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