小池 貴夫 | 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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概要
関連著者
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松波 弘之
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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Necエレクトロニクス株式会社
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(株)genusion
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京都大学大学院工学研究科
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奈良先端科学技術大学院大
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小倉 卓
京都大学工学部
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二山 拓也
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
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村中 誠志
京都大学工学部
著作論文
- TEOSを原料としてリモートプラズマCVD法により作製したSiO_2膜の電流伝導機構
- 酸素活性種を用いた高品質極薄SiO_2膜の形成とMOSFETへの応用(関西支部研究例会の講演要旨(平成9年度第1回))
- MOSデバイス用極薄SiO_2膜の低温形成