冬木 隆 | 京都大学工学部電気工学第二科

スポンサーリンク

概要

• 冬木 隆の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 京都大学工学部電気工学第二科の論文著者

関連著者

• 冬木 隆

  京都大学工学部電気工学第二科

• 松波 弘之

  京都大学工学部電気電子工学教室

• 松波 弘之

  京都大学工学部

• 松波 弘之

  京都大学工学研究科

• 松波 弘之

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 松波 弘之

  京大工

• 小倉 卓

  Necエレクトロニクス株式会社

• 小倉 卓

  (株)genusion

• 小池 貴夫

  京都大学工学部

• 小倉 卓

  京都大学工学部

• 小池 貴夫

  京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻

• 松波 弘之

  京都大学大学院工学研究科

• 吉本 昌広

  京都大学工学部電気工学科

• 吉信 達夫

  京都大学工学部電気工学第二教室

• 岡 徹

  日立製作所

• 藤森 敬和

  京都大学工学部

• 吉本 昌宏

  京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科

• 二山 拓也

  京都大学工学研究科電子物性工学専攻

• 藤井 正

  京都大学工学部電気工学第二学科

• 黒部 憲一

  京都大学工学研究科

• 村中 誠志

  京都大学工学部

• 小原 天

  京都大学工学部

• 吉田 博康

  京都大学工学部

• 吉本 昌広

  京都工芸繊維大学大学院 電子システム工学部門

もっと見る 閉じる

著作論文

• ガスソース分子線を用いたシリコンカーバイド単結晶成長の原子層制御
• 高効率太陽電池素子の開発 : 現状と将来展望
• TEOSを原料としてリモートプラズマCVD法により作製したSiO_2膜の電流伝導機構
• リモートプラズマCVD法による高品質SiO_2膜の低温形成とSi-MOSFETへの応用
• ハイブリッドプラズマCVD法により堆積したa-SiC:Hの結合様式の解析
• MOSデバイス用極薄SiO_2膜の低温形成
• プラズマCVD法によって堆積した太陽電池用Si薄膜の不純物ドーピング特性
• 「励起状態活用によるシリコンヘテロ界海面制御 : 酸素活性種を用いた極薄SiO_2膜の形成」
• CVD法による薄膜結晶Siの堆積における核発生制御

スポンサーリンク