堀田 昌宏 | 奈良先端大

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概要

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• 奈良先端大の論文著者

関連著者

• 堀田 昌宏

  奈良先端大

• 浦岡 行治

  奈良先端科学技術大学院大

• 浦岡 行治

  奈良先端大:crest

• 浦岡 行治

  奈良先端大

• 紺谷 拓哉

  奈良先端大 物質創成科学研究科

• 浦岡 行治

  奈良先端大物質創成科学研究科

• 田口 信義

  (有)イメージテック

• 堀口 昌吾

  奈良先端大 物質創成科学研究科

• 石河 泰明

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 堀田 昌宏

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 堀田 昌宏

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 石河 泰明

  奈良先端科技大:CREST-JST

• 石河 泰明

  奈良先端科学技術大学院大学

• 西田 貴司

  奈良先端大

• 山崎 浩司

  奈良先端科学技術大学院 大学情報科学研究科

• 谷口 真央

  奈良先端大物質創成科学研究科

• 石河 泰明

  奈良先端大物質創成科学研究科

• 石河 泰明

  奈良先端大 物質創成科学研究科

• 谷口 真央

  奈良先端大 物質創成科学研究科

• 木村 秀夫

  物質・材料研究機構

• 前島 尚行

  奈良先端大物質

• 西田 貴司

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 西田 貴司

  奈良先端大物質創成

• 内山 潔

  奈良先端大物質創成

• 旭 健史郎

  奈良先端大

• 布施 和志

  奈良先端大

• 米田 安宏

  原子力機構

• 田村 和久

  原子力機構

• 松村 大樹

  原子力機構

• 木村 秀夫

  物材研

• 上沼 睦典

  奈良先端大

• 松下 智裕

  Jasri

• 大門 寛

  奈良先端大

• 木村 秀夫

  物材機構

• 米田 安宏

  原子力機構・放射光科学研究ユニット

• 木村 秀夫

  NIMS

• 内山 潔

  奈良先端大

• 藤井 茉美

  奈良先端科学技術大学院大学

• 市川 和典

  神戸市立工業高等専門学校

• 松江 将博

  神戸市立工業高等専門学校

• 赤松 浩

  神戸市立工業高等専門学校

• 小林 祐輔

  奈良先端大物質創成科学研究科

• 須崎 昌己

  大阪府立高専総合工学システム学科

• 木村 秀夫

  物質・材料研究機構応用結晶科学グループ

• 赤松 浩

  神戸市工高専

• 浦岡 行治

  奈良先端大 物質創成科学研究科

• 丸山 智己

  奈良先端科学技術大学院大学

• 笠見 雅司

  出光興産株式会社

• 矢野 公規

  出光興産株式会社

• 前島 尚行

  奈良先端大

• 松井 公佑

  奈良先端大

• 町田 絵美

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 呂 莉

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 張 敏

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 荒木 慎司

  奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科

• 張 敏

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 石井 良

  奈良先端大

• 呂 莉

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 藤田 將喜

  奈良先端大

• 西田 貴司

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 安田 馨

  奈良先端大

• 松井 文彦

  奈良先端大

• 荒木 慎司

  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科

• 大田 拓也

  奈良先端大物質創成

• 堀田 昌宏

  奈良先端大物質創成

• 大田 拓也

  奈良先端大物質

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著作論文

• 21aPS-95 斜入射スパッタ法によるPbTiO_3の自己組織化ナノ結晶アレイの作製と評価(21aPS 領域10ポスターセッション(誘電体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• マイクロ波焼成によるZnS系無機EL蛍光体の発光特性の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製 (電子ディスプレイ)
• 蛍光体粉末の微粒化処理によるZnS無機ELの発光特性の改善 (シリコン材料・デバイス)
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製
• 裏面からのレーザー照射による2層同時結晶化LTPS-TFTメモリの特性評価(シリコン関連材料の作製と評価)
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
• 高圧水蒸気熱処理によるa-In_2Ga_2Zn_1O_7 TFTの特性改善効果(シリコン関連材料の作製と評価)
• 蛍光体粉末の微粒化処理によるZnS無機ELの発光特性の改善(シリコン関連材料の作製と評価)
• 赤外線急速加熱によるZnS系無機ELの作製
• グリーンレーザーによる積層構造シリコン薄膜の同時結晶化と薄膜デバイスへの応用(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• ZnS系無機EL蛍光体の発光特性に対する高圧水蒸気熱処理の効果(シリコン関連材料の作製と評価)
• ゲル-ナノインプリントプロセスによるZnO-2次元フォトニック結晶の作製(シリコン関連材料の作製と評価)
• ZnS系無機EL蛍光体の発光特性に対する高圧水蒸気熱処理の効果
• 27aJB-6 光電子回折分光法によるAlN/SiC(11-20)界面の原子構造解析(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))

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