Improving High-κ Gate Dielectric Properties by High-Pressure Water Vapor Annealing
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概要
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- Japan Society of Applied Physicsの論文
- 2006-02-25
著者
-
堀田 将
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
-
浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大
-
Sameshima Toshiyuki
Tokyo University Of Agriculture And Technology
-
URAOKA Yukiharu
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
-
FUYUKI Takashi
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
-
PUNCHAIPETCH Prakaipetch
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
-
Sameshima Toshiyuki
Tokyo A&t University
-
MIYASHITA Makoto
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
-
HORII Sadayoshi
Semiconductor Equipment System Laboratory, Hitachi Kokusai Electric Inc.
-
Fuyuki Takashi
Graduate School Of Material Science Nara Institute Of Science And Technology
-
Horii Sadayoshi
Semiconductor Equipment System Laboratory Hitachi Kokusai Electric Inc.
-
Uraoka Yukiharu
Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology
-
Miyashita Makoto
Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology
-
Punchaipetch Prakaipetch
Graduate School Of Materials Science Nara Institute Of Science And Technology
-
Fuyuki Takashi
Nara Inst. Sci. And Technol. Nara Jpn
-
Uraoka Yukiharu
Graduate School of Material Science, Nara Institute of Science and Technology, Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, Japan
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