桐村 浩哉 | 日新電機株式会社技術開発研究所
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概要
関連著者
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大学
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冬木 隆
奈良先端科学技術大学院大
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浦岡 行治
奈良先端科学技術大学院大
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桐村 浩哉
日新電機株式会社技術開発研究所
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高橋 英治
日新電機株式会社
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緒方 潔
日新電機株式会社
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安田 幸夫
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所
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北島 浩司
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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久保田 清
日新電機株式会社技術開発研究所
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岸田 茂明
日新電機株式会社技術開発研究所
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彦野 太樹夫
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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猪飼 順子
奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
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加藤 健治
日新電機株式会社技術開発研究所
著作論文
- 水素ラジカル励起と高密度・低ポテンシャルプラズマを用いた低温ポリシリコン成膜技術 : 成長初期段階の結晶化シリコン成膜・評価技術(半導体Si及び関連材料・評価)
- Si量子ドットを用いたフローティングゲートメモリ : PECVD法を用いたSiナノドットへの電子注入(半導体Si及び関連材料・評価)