Dependence of Electron Cyclotron Resonance Plasma Characteristics on Introduced Microwave Conditions

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1992-05-01

著者

• SAMUKAWA Seiji

  Institute of Fluid Science, Tohoku University

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo Jpn

• NAKAMURA Tsuyoshi

  Mechatronics Research Laboratry, Functional Devices Research Laboratories, NEC Corporation

• SAMUKAWA Seiji

  VLSI Development Division, NEC Corporation

• ISHITANI Akihiko

  VLSI Development Division, NEC Corporation

• Samukawa S

  Tohoku Univ. Sendai Jpn

• Samukawa Seiji

  Process Development Department Vlsi Development Division Nec Corporation

• Samukawa Seiji

  Vlsi Development Div. Nec Corporation

• Nakamura Tetsuro

  Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology

• Nakamura Tsuyoshi

  Mechatronics Research Laboratry Functional Devices Research Laboratories Nec Corporation

• Nakamura Toshihiko

  Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

• Ishitani A

  O Ntt Atsugi R&d Center:(permanant Address)semiconductor Company Matsushita Electronics Corporat

• Ishitani Akihiko

  Vlsi Development Division Nec Corporation

• Nakamura Tsuyoshi

  Mechatronics Research Laboratory Nec Corporation

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