Ion Energy Distributions at the Electron Cyclotron Resonance Position in Electron Cyclotron Resonance Plasma
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1990-12-20
著者
-
SAMUKAWA Seiji
Institute of Fluid Science, Tohoku University
-
深沢 塔一
金沢工業大学機械系
-
SAMUKAWA Seiji
VLSI Development Division, NEC Corporation
-
中川 吉郎
大阪市立大学
-
Ikeda K
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
Ikeda Keisuke
Institute For Materials Research Tohoku University
-
Nakagawa Y
Yamanashi Univ. Kofu Jpn
-
Samukawa S
Tohoku Univ. Sendai Jpn
-
Samukawa Seiji
Process Development Department Vlsi Development Division Nec Corporation
-
Samukawa Seiji
Vlsi Development Div. Nec Corporation
-
Ikeda Keiji
Department Of Physical Electronics Tokyo Institute Of Technology
-
NAKAGAWA Yukito
ANEL VA Corporation
-
IKEDA Kei
ANEL VA Corporation
-
中川 吉郎
大阪市立大・工
関連論文
- Ultrathin Oxynitride Films Formed by Using Pulse-Time-Modulated Nitrogen Beams
- Optical Investigations of YbCrO_3 under High Magnetic Fields. II. Cr^-Yb^ Two-Exciton Absorption
- Optical Investigations of YbCrO_3 under High Magnetic Fields. I. Yb^ Absorption Spectra
- 2 FBGを用いた表面貼付型多点圧力センサの開発 : 第2報 抵抗試験における定常圧力分布計測
- 1 FBGを用いた表面貼付型多点圧力センサの開発 : 第1報 圧力測定法とセンサ性能
- 2006A-G5-2 FBGを用いた多点型圧力センサの開発(一般講演(G5))
- Novel Stacked Nanodisk with Quantum Effect Fabricated by Defect-free Chlorine Neutral Beam Etching
- A New Silicon Quantum-Well Structure with Controlled Diameter and Thickness Fabricated with Ferritin Iron Core Mask and Chlorine Neutral Beam Etching
- Fabrication of Four-Terminal Fin Field-Effect Transistors with Asymmetric Gate-Oxide Thickness Using an Anisotropic Oxidation Process with a Neutral Beam
- Optimally Stable Electron Cyclotron Resonance Plasma Generation and Essential Points for Compact Plasma Source
- Multi-Coil System for Electron Cyclcotron Resonance Plasma Generation
- Uniform Electron Cyclotron Resonance Plasma Generation for Precise ULSI Patterning
- Dependence of Electron Cyclotron Resonance Plasma Characteristics on Introduced Microwave Conditions
- 酸素中噴霧水微粒子のバリア放電による有機汚染物質の分解
- パルスガス放電による水中有機染料の脱色
- 根本廣太郎氏の御提言に対して
- New Fabrication Technology of Fin Field Effect Transistors Using Neutral-Beam Etching
- Fabrication of a Vertical-Channel Double-Gate Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor Using a Neutral Beam Etching
- Low-Leakage-Current Ultra-thin SiO_2 Film by Low-Temperature Neutral Beam Oxidation
- 高速コンテナ船のスラミングによる船首部損傷解析
- 2008S-OS2-5 設計不規則波と直接荷重解析法による最大応答推定 : LNG船への適用(オーガナイズドセッション(OS2):大型船の構造安全性)
- 25 設計不規則波を用いた最大応答推定法 : 第2報:コンテナ船の局部応力の推定
- 2005A-G4-4 設計不規則波と直接荷重解析法によるコンテナ船の強度検討について(一般講演(G4))
- 幕引き,そして幕明けへ
- Control of Electron Transport in Two-Dimensional Array of Si Nanodisks for Spiking Neuron Device
- 小型貨物船のスラミングによる応答と崩壊強度 : 第1報 : 波浪曲げモーメントの算定
- チャンネルスパーク放電によるパルス高密度電子ビームの生成
- パルス電子ビームによる模擬排ガス中のNO_x除去
- 5p-YN-12 パルス大電流電子ビームの伝送、圧縮とその応用
- NO_x Removal in N_2 by Pulse Intense Electron Beam Irradiation
- 船の環境としての波(その2) : 荷重条件(入社5年目のなんでだろう?)
- 2005A-G4-3 波浪荷重の最大値の推定における想定海象の設定とリスク解析(一般講演(G4))
- Pulse Intense Electron Beam Irradiation on the Atmospheric Pressure N_2 Containing 200 ppm of NO
- バラ積運搬船の満載時における遭難事故解析
- Fabrication of Defect-Free Sub-10nm Si Nanocolumn for Quantum Effect Devices Using Cl Neutral Beam Process
- Plasma-Radiation-Induced Interface States in Metal-Nitride-Oxide-Silicon Structure of Charge Coupled Device Image Sensor and Their Reduction Using Pulse-Time-Modulated Plasma
- 国際船舶海洋構造会議(ISSC) : 第VI. 1特別タスク委員会(疲労荷重)中間会議出席報告
- 波浪荷重の非線形性と船体形状(運動性能部,所外発表論文等概要)
- 2007K-G8-1 小型外洋セーリングヨットの風圧によるローリング特性と転覆の可能性について(一般講演(G8))
- これからの船舶・海洋研究と学会
- 論文集と学術講演
- Characterization of Simple Aquatic Microcosm for Ecotoxicity Screening
- Measurement of Magnetic Field using Ultrasonic Vibration
- New Ultra-High-Frequency Plasma Source for Large-Scale Etching Processes
- Molecular-Scale Structures of Langmuir-Blodgett Films of Fatty Acids Observed by Atomic Force Microscopy
- Atomic Force Microscopy of Isotactic Polystyrene Crystals
- Atomic Force Microscopy of Solution Grown Polyethylene Single Crystals
- 大型船の疲労強度検討のための波浪変動圧分布に関する研究
- 弾性変形を考慮した3次元セールの空力特性
- 弾性変形を考慮した3次元セールの空力特性
- 大型船の疲労強度検討のための船側変動圧に関する研究
- Ion Current Density and Ion Energy Distributions at the Electron Cyclotron Resonance Position in the Electron Cyclotron Resonance Plasma
- 船舶等の動力学に関する2つのシンポジウムに参加して
- Ion Energy Distributions at the Electron Cyclotron Resonance Position in Electron Cyclotron Resonance Plasma
- 斜波中非線形船体運動/波浪荷重の時間領域における数値計算法に対する一考察
- 低速時の操縦運動モデルの実用化 : MSS報告IV
- 窒素ガス中パルス電子ビーム照射によるチタニュウムの表面改質
- Initial Oxidation Processes of H-Terminated Si(100) Surfaces Analyzed using a Random Sequential Adsorption Model
- Influences of Impurities on Oxidation Processes of Si(100) Substrates
- Influences of Impurities on Oxidation Processes of Si(100) Substrates
- Variation of Radial Plasma Density Profile with the Excitation Frequency in a Magnetron-Type Plasma
- Modified Magnetron Type Plasma Source for Etching Applications
- Fabrication of Thin-Film Phase Grating Using Surface Acoustic WavesZ
- Fabrication of Thin Film Phase Grating Using Surface Acoustic Waves
- Decomposition of Chlorofluorocarbon by Pulse High-Current Discharge and Fast Burning through Spark Discharge
- SiO_2 Etching Using M=0 Helicon Wave Plasma
- Decomposition of Low-Pressure Pollutant by Repeated Pulse Microwave Discharge
- 波浪中の船体縦運動に対する非線形影響
- 舷側厚板部に設置される座屈防止用カーリングの疲労強度に対する影響について
- Optical Diagnostics of a Pulsed Inductively Coupled Nitrogen Plasma
- 追波中を高速で航行する船体に働く波浪強制力
- 2軸2舵船の操縦数学モデルについて
- Articulated Columnの波浪中の挙動解析 : 第1報 : 規則波中の周波数応答
- Pattern Recognition of Charged Particles for the VENUS Central Drift Chamber
- 「波浪衝撃力」
- International Journal
- 波浪変動圧によって生ずる応力の応答関数と長期発現頻度の簡易推定法に関する研究
- 大型船の疲労強度検討のための波浪変動圧分布に関する研究
- 24 多段積みコンテナの挙動解析とコンテナ拘束方法に関する研究 : 第1報:弾性変形を考慮しない場合
- 設計不規則波を用いた最大応答推定法 : 第1報: 縦曲げモーメントの推定
- JABEEによる認定審査試行を受けて
- 3 波浪中の構造応答解析法(波浪中の船体の構造応答と安全性評価について)
- Effects of Thermal Annealing for Restoration of UV Irradiation Damage during Plasma Etching Processes
- Effects of CF_3I Plasma for Reducing UV Irradiation Damage in Dielectric Film Etching Processes
- Control of UV Radiation Damages for the High Sensitive CCD Image Sensor
- On-Wafer Monitoring of Vacuum-Ultraviolet Radiation Damage in High-Density Plasma Processes
- High-Efficiency Low Energy Neutral Beam Generation Using Negative Ions in Pulsed Plasma
- High-Efficiency Neutral-Beam Generation by Combination of Inductively Coupled Plasma and Parallel Plate DC Bias : Nuclear Science, Plasmas, Electric Dischanges
- Growth of Preferentially Oriented Microcrystalline Silicon Film Using Pulse-Modulated Ultrahigh-Frequency Plasma
- Time-Modulated Electron Cyclotron Resonance Plasma Discharge for Controlling the Polymerization in SiO_2 Etching
- Motion and Longitudinal Strength of a Ship in Head Sea and the Effects of Non-Linearities : 4th Report : Experiments
- 高速艇の海水打込みについて
- 衝撃荷重を受ける薄肉はりの横倒れ
- 101 FBGを利用した圧力センサの開発(2)(OS1-1 光工学による流体計測法の応用と新展開,OS1 光工学による流体計測法の応用と新展開,オーガナイズドセッション)
- 101 FBGを利用した圧力センサの開発(1)(OS1-1 光工学による流体計測法の応用と新展開,OS1 光工学による流体計測法の応用と新展開,オーガナイズドセッション)
- Surface Reaction Enhancement by UV irradiation during Si Etching Process with Chlorine Atom Beam
- 大型バラ積貨物船のスラミングとAxial Forceの影響について
- 大型バラ積貨物船スラミングとAxial Forceの影響について〔含 討論〕
- 「チモシェンコビーム」(Timoshenko beam)
- Magnetically Damage-free Etching of MTJ Film for Future 0.24-μm-rule MRAMs