Modified Magnetron Type Plasma Source for Etching Applications

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概要

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• 日本真空協会の論文
• 1998-03-20

著者

• 中川 恭彦

  山梨大学大学院医学工学総合研究部

• 佐藤 徳芳

  東北大

• 深沢 塔一

  金沢工業大学機械系

• 中川 恭彦

  山梨大学工学部

• 佐藤 徳芳

  東北大学

• 中川 恭彦

  山梨大医工

• 佐藤 徳芳

  東北大学工学部電磁工学講座

• 中川 吉郎

  大阪市立大学

• Wickramanayaka Sunil

  静岡大 電子工研

• Wickramanayaka S

  Anelva Corporation

• Sato N

  Okayama Univ. Okayama

• Noguchi S

  Department Of Physics And Electronics Osaka Prefecture University

• Sato N

  Tohoku Univ.

• Sato Noriaki

  Graduate School Of Science Tohoku University

• Nakagawa Y

  Yamanashi Univ. Kofu Jpn

• Sato N

  Dept. Of Electronic Eng. Tohoku University

• Sato Naoyuki

  Department Of Electric And Electronic Engineering Ibazuki University

• 深澤 塔一

  金沢工大

• Sato N

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• Sato Noriaki

  Department Of Physics Tohoku University

• Sunil Wickramanayaka

  静岡大学電子工学研究所

• NAKAGAWA Yukito

  Anelva Corporation

• TSUKADA Tsutomu

  Anelva Corporation

• 中川 吉郎

  大阪市立大・工

• Sato Noriyoshi

  Dept. Of Electronic Eng. Tohoku University

• WICKRAMANAYAKA Sunil

  ANELVA Corporation

• LI Yunlong

  Dept. of Electronic Eng. Tohoku University

• IIZUKA Satoru

  Dept. of Electronic Eng. Tohoku University

• Sato N

  Semiconductor Technology Development Group Semiconductor Solutions Network Company Sony Corporation

• Sato N

  Japan Meteorological Agency Tokyo Jpn

• 深沢 塔一

  金沢工業大学 機械・物質系

• Tsukada T

  Tdk Corp. Chiba Jpn

• Tsukada Tsutomu

  Anelva Corp.

• Wickramanayaka Sunil

  Anelva Corporation Head Office

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