H型導波路を用いた超伝導帯域幅チューナブルフィルタの検討(マイクロ波,超伝導)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
本論文では超伝導フィルタの帯域幅チューニングについて述べる.チューニング方法にはH型導波路を共振器間に配置し導波路のスイッチングによって帯域幅の調整を行う.フィルタ形状は3段半波長共振器フィルタの共振器間に一対のH型導波路を配置した形状をしており,また,チューニング後の特性改善用に給電線部分に電極が配置されている.実際に提案するフィルタが帯域幅チューニングできる確かめるために設計を行い,超伝導体で試作する前段階としてDuroid基板を用いて実験を行った.実験では1.55倍に帯域幅を広げられることを確認した.これにより,H型導波路によって帯域幅チューニングが有効であることが明らかとなった.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-04-16
著者
-
中川 恭彦
山梨大学大学院医学工学総合研究部
-
垣尾 省司
山梨大学大学院医学工学総合研究部
-
関谷 尚人
山形大学工学部
-
大嶋 重利
山形大学工学部
-
大嶋 重利
山形大学
-
關谷 尚人
山梨大学医学工学総合研究部
-
小池 優輔
山梨大学医学工学総合研究部
-
原田 洋幸
山梨大学医学工学総合研究部
-
垣尾 省司
山梨大学医学工学総合研究部
-
中川 恭彦
山梨大学医学工学総合研究部
-
關谷 尚人
山梨大医工
-
中川 恭彦
山梨大医工
-
中川 恭彦
山梨大学
関連論文
- 2-04P-23 弾性表面波を用いたタンデム導波路型AOMによる周波数シフト帰還型レーザー発振(ポスターセッション 2)
- A-3 圧電性Ta_2O_5単結晶薄膜の光学特性(超音波物性・材料、フォノン)
- 圧電性Ta_2O_5単結晶薄膜の作成(一般・材料)
- 超音波デバイス 広帯域可視光変調素子を用いた簡易なRGB光同時変調システム
- 1P3-7 弾性表面波を用いたタンデム音響光学周波数シフタの高効率化(ポスターセッション)
- P3-63 弾性表面波を用いた導波路型音響光学変調素子の光回折特性の改善(ポスターセッション3(概要講演))
- 弾性表面波を用いた導波路型音響光学変調素子の光回折特性とBPM解析(適応制御・計測技術, 高効率FEC技術, パフォーマンスモニタリング技術, 一般)
- 弾性表面波を用いた導波路型光周波数シフタと周波数シフト帰還型ファイバレーザへの応用(AO素子)(光-超音波エレクトロニクス論文特集)
- 弾性表面波を用いた導波路型光周波数シフタと周波数シフト帰還型ファイバレーザーへの応用
- 弾性表面波を用いた導波路型光周波数シフタと周波数シフト帰還型ファイバレーザーへの応用(光無線システム(ROF, FWA等),光映像伝送(CATV含む,光アクセスシステム),一般)
- Optical Investigations of YbCrO_3 under High Magnetic Fields. II. Cr^-Yb^ Two-Exciton Absorption
- Optical Investigations of YbCrO_3 under High Magnetic Fields. I. Yb^ Absorption Spectra
- H型導波路を用いた超伝導帯域幅チューナブルフィルタの検討(マイクロ波,超伝導)
- チューナブル高温超伝導フィルタの新しいトリミング技術の実験的検討(マイクロ波,超伝導)
- C-2-75 π型導波路を用いた帯域幅チューナブルBPFの検討(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- C-2-76 ストリップライン構造を用いた送信用超伝導フィルタの小型化(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- C-2-66 周波数チューナブルマイクロストリップフィルタの1GHzチューニング(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- C-2-65 チューナブルフィルタの入出力整合回路による特性改善(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- H型導波路を用いた超伝導帯域幅チューナブルフィルタの検討(マイクロ波,超伝導)
- 3P3-5 弾性表面波を用いた音響光学変調素子による簡易なRGB光同時変調(ポスターセッション)
- Π型導波路を用いた帯域幅チューナブルフィルタの実験的検討(マイクロ波超伝導/一般)
- ストリップライン構造を用いた高温超伝導送信用フィルタの基礎的検討(マイクロ波超伝導/一般)
- П型導波路を用いた帯域幅チューナブルフィルタの実験的検討(マイクロ波超伝導/一般)
- ストリップライン構造を用いた高温超伝導送信用フィルタの基礎的検討(マイクロ波超伝導/一般)
- P1-8 2元高周波スパッタ法によるKNbO_3薄膜の作製と評価(ポスターセッション1(概要講演))
- イオンビーム照射による水晶振動子の周波数変動の理論解析(超音波エレクトロニクス)
- 酸素中噴霧水微粒子のバリア放電による有機汚染物質の分解
- パルスガス放電による水中有機染料の脱色
- チューナブル高温超伝導フィルタの新しいトリミング技術の実験的検討(マイクロ波,超電導)
- C-2-53 π型導波路にオープンスタブを付加した帯域幅チューナブルフィルタの検討(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- イオンビーム照射における水晶振動子の周波数変動
- 1P4-1 ラム波型弾性波素子基板の伝搬特性(ポスターセッション)
- Ta_2O_5薄膜/Si基板を用いた圧電薄膜共振子の作製
- 2P-30 Ta_2O_5薄膜/Si基板を用いた圧電薄膜共振子の作製(ポスターセッション)
- 弾性表面波研究からラム波研究への道(アコースティックイメージング,一般)
- C-2-54 ストリップライン構造を用いた送信用超伝導デュアルモードパッチフィルタの小型化(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
- 2P-31 超臨界CO_2中における弾性表面波共振子の振舞い(ポスターセッション)
- 1Pb-37 弾性表面波による光弾性効果を用いた高速応答TE-TMモード変換素子(ポスターセッション)
- 3P3-11 逆プロトン交換基板上の漏洩弾性表面波の伝搬特性解析(ポスターセッション)
- 3P3-4 ラム波を用いた高効率なモード変換器(ポスターセッション)
- 3P1-26 高周波スパッタリング法による高配向Ta_2O_5圧電薄膜の作製と評価(ポスターセッション)
- 1P5-10 高周波スパッタリング法による高配向Ta_2O_5圧電薄膜の作製(ポスターセッション)
- 1P5-8 逆プロトン交換LiNbO_3基板上のリーキー表面波伝搬特性(ポスターセッション)
- 1P3-8 弾性表面波を用いた広帯域可視光変調素子(ポスターセッション)
- 1J3-2 ラム波を用いた高効率な光モード変換器(光-超音波エレクトロニクス/水中音響)
- 高周波スパッタによる高配向Ta_2O_5圧電薄膜の作製
- 逆プロトン交換LiNbO_3基板上の漏洩弾性表面波伝搬特性
- チャンネルスパーク放電によるパルス高密度電子ビームの生成
- パルス電子ビームによる模擬排ガス中のNO_x除去
- 5p-YN-12 パルス大電流電子ビームの伝送、圧縮とその応用
- NO_x Removal in N_2 by Pulse Intense Electron Beam Irradiation
- Pulse Intense Electron Beam Irradiation on the Atmospheric Pressure N_2 Containing 200 ppm of NO
- Twin-T型複合水晶共振回路の周波数方程式
- Twin-T型複合水晶共振回路の周波数可変特性
- 光導波路を用いたバリアー放電壁面近傍励起種の吸収計測
- 負荷容量調整時の周波数変化とその変位分布依存性(一般・材料)
- 窒素ガス中パルス電子ビーム照射によるチタニュウムの表面改質
- Initial Oxidation Processes of H-Terminated Si(100) Surfaces Analyzed using a Random Sequential Adsorption Model
- Influences of Impurities on Oxidation Processes of Si(100) Substrates
- Influences of Impurities on Oxidation Processes of Si(100) Substrates
- Variation of Radial Plasma Density Profile with the Excitation Frequency in a Magnetron-Type Plasma
- Modified Magnetron Type Plasma Source for Etching Applications
- Fabrication of Thin-Film Phase Grating Using Surface Acoustic WavesZ
- Fabrication of Thin Film Phase Grating Using Surface Acoustic Waves
- Decomposition of Chlorofluorocarbon by Pulse High-Current Discharge and Fast Burning through Spark Discharge
- SiO_2 Etching Using M=0 Helicon Wave Plasma
- Decomposition of Low-Pressure Pollutant by Repeated Pulse Microwave Discharge
- ラム波の特長を利用したガスセンサの基本的検討
- 2-01P-05 高周波スパッタによる高配向KNbO_3薄膜の作製と評価(ポスターセッション 2)
- 1-06P-39 逆プロトン交換LiNbO_3上の弾性表面波特性(ポスターセッション 1)
- ラム波型弾性波素子用基板の温度特性(超音波エレクトロニクス)
- ラム波型弾性波素子用基板の温度特性
- ラム波型弾性波素子用基板の温度特性
- 水晶基板を用いたラム波型共振器
- AS-2-11 逆プロトン交換LiNbO_3基板上の縦型漏洩弾性表面波の伝搬特性(ネットワーク品質,トラヒック計測,サービス品質,一般)
- 逆プロトン交換10°Y-X LiNbO3基板上の漏洩弾性表面波の伝搬特性
- 2-06P-32 TeO_2装荷Y-X LiTaO_3を用いたラブ波型SAW共振子(ポスターセッション 2)
- P1-14 高密度薄膜装荷ランガサイト基板上のラブ波型SH波を用いたSAW共振子(ポスターセッション1(概要講演))
- 薄膜装荷ランガサイト基板上の高結合・高安定ラブ波型SH波
- 弾性表面波研究からラム波研究への道
- 1-05P-32 ラム波の特長を利用した水素ガスセンサ(ポスターセッション 1)
- P3-62 ラム波による側圧を用いた光ファイバー光の偏波面回転(ポスターセッション3(概要講演))
- P1-10 ラム波型弾性波素子用基板の温度特性(ポスターセッション1(概要講演))
- SAWパワーを有効に利用する偏光面制御素子
- 超音波デバイス Ta2O5薄膜/Si基板を用いた圧電薄膜共振子の作製
- SA-6-1 圧電性Ta_2O_5単結晶薄膜の作成とSAWデバイスへの応用(SA-6. 薄膜技術を利用した最近の弾性波デバイス)
- 超音波デバイス 弾性表面波を用いた導波路型音響光学変調素子の光回折特性とBPM解析
- C-2-38 積層型給電を用いた送信用超伝導デュアルモードフィルタの耐電力特性の改善(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス,一般セッション)
- A-11-4 アモルファスTa_2O_5薄膜の音響関連物理定数の成膜条件依存性(A-11.超音波,一般セッション)
- 逆プロトン交換による縦型漏洩弾性表面波の低損失化
- Ti拡散回転YカットLiNbO_3光導波路を用いた音響光学ブラッグ回折
- 1J1-4 高周波スパッタリング法により作製されたアモルファスTa_2O_5薄膜の音響特性評価(超音波物性,材料,フォノン物理,光超音波エレクトロニクス)
- 高周波スパッタリング法により作製されたアモルファスTa_2O_5薄膜の音響特性評価
- 2Pb3-8 逆プロトン交換による縦型漏洩弾性表面波の低損失化(ポスターセッション)
- 漏洩弾性表面波による逆プロトン交換LiNbO_3光導波路の偏波制御
- 3Pa3-7 超臨界CO_2中における弾性表面波共振子の共振特性(ポスターセッション)
- 超臨界CO_2中における弾性表面波共振子の共振特性
- A-11-4 アルミナ薄膜装荷LiNbO_3基板上の縦型漏洩弾性表面波(A-11.超音波,一般セッション)
- 逆プロトン交換10° Y-X LiNbO_3基板上の漏洩弾性表面波の伝搬特性
- A-11-4 アモルファスTa_2O_5薄膜のSAW伝搬特性に対するロングスロースパッタ成膜の効果(A-11.超音波,一般セッション)