New Ultra-High-Frequency Plasma Source for Large-Scale Etching Processes
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-12-30
著者
-
深沢 塔一
金沢工業大学機械系
-
SAMUKAWA Seiji
LSI Basic Research Laboratory, Microelectronics Research Laboratories, NEC Corporation
-
NAKAGAWA Yukito
Anelva Corporation
-
TSUKADA Tsutomu
Anelva Corporation
-
UEYAMA Hiroyuki
Nihon Koshuha Co., Ltd.
-
SHINOHARA Kibatsu
Nihon Koshuha Co., Ltd.
-
Samukawa Seiji
Lsi Basic Research Laboratory Microelectronics Research Laboratories Nec Corporation
-
Tsukada Tsutomu
Anelva Corp.
-
Ueyama Hiroyuki
Nihon Koshuha Co. Ltd.
-
Shinohara Kibatsu
Nihon Koshuha Co. Ltd.
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