Microcrystalline Silicon Film Growth Using a High-Density Microwave Plasma of SiH_4-and-D_2 Mixture
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2002-12-15
著者
-
SHIRAI Hajime
Department of Functional Materials Science, Faculty of Engineering
-
UEYAMA Hiroyuki
Nihon Koshuha Co., Ltd.
-
Shirai Hajime
Department Of Functional Materials And Science Faculty Of Engineering Saitama University
-
Ueyama H
Nihon Koshuha Co. Ltd.
-
Yoshino Koichi
Department of Epidemiology and Public Health, Tokyo Dental College
-
Yoshino Koichi
Department Of Epidemiology And Public Health Tokyo Dental College
-
OHKAWARA Go
Department of Functional Materials Science, Faculty of Engineering, Saitama University
-
Ohkawara Go
Department Of Functional Materials Science Faculty Of Engineering Saitama University
-
Ueyama Hiroyuki
Nihon Koshuha Co. Ltd.
-
Yoshino Katsumi
The Department Of Electrical Engineering Osaka University
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