薄膜化プロセスにより実現した室温で安定な螢石型酸化ビスマスの作製
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概要
著者
-
中村 高遠
静岡大学工学部
-
高橋 直行
静大院理工
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
竹山 知陽
Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University
-
竹山 知陽
静大院理工
-
中村 高遠
静大院理工
-
Nakamura Tomohiko
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Nakamura T
Tokyo Metropolitan Univ. Tokyo Jpn
-
Nakamura T
Sumitomo Electric Industries Ltd.
-
Nakamura Tomoyuki
Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation
-
Nakamura Takatou
Department Of Electronics Faculty Of Engineering Shizuoka University
-
Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
-
Nakamura Tetsuro
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo
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