竹山 知陽 | 静大院理工

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概要

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• 同名の論文著者
• 静大院理工の論文著者

関連著者

• 中村 高遠

  静岡大学工学部

• 高橋 直行

  静大院理工

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo Jpn

• 竹山 知陽

  Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University

• 竹山 知陽

  静大院理工

• 中村 高遠

  静大院理工

• Nakamura Tomohiko

  The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University

• Nakamura T

  Tokyo Metropolitan Univ. Tokyo Jpn

• Nakamura T

  Sumitomo Electric Industries Ltd.

• Nakamura Tomoyuki

  Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation

• Nakamura Takatou

  Department Of Electronics Faculty Of Engineering Shizuoka University

• Nakamura Takuya

  The Faculty Of Engineering Saitama University

• Nakamura Tetsuro

  Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology

• Nakamura Tetsuro

  School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology

• Nakamura Tetsuro

  Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology

• Nakamura Toshihiko

  Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo

• 伊藤 節郎

  旭硝子中研

• 伊藤 節郎

  旭硝子株式会社中央研究所

• 伊藤 節郎

  旭硝子(株)中央研究所

• 高橋 直行

  静岡大学工学部物質工学科

• 武内 麻理子

  静岡大学大学院理工学研究科

• 竹山 知陽

  静岡大学大学院理工学研究科

• 高橋 直行

  Department of Materials Science and Technology, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 中村 高遠

  Department of Materials Science and Technology, Faculty of Engineering, Shizuoka University

• 伊藤 節郎

  Research Center, Asahi Glass Co., Ltd

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著作論文

• 電気化学析出法による非晶質酸化ビスマス薄膜の作製
• AP-HCVD法により作製したσ-Bi_2O_3薄膜へのガス供給の影響と表面モフォロジー
• 17aD01 大気圧ハライド気相成長法によるYSZ(111)基板上へのδ-Bi_2O_3薄膜の作製(結晶成長基礎(1),第35回結晶成長国内会議)
• 大気圧ハライド気相成長法によるδ-Bi2O3薄膜の作製と薄膜構造評価用X線回折装置による結晶性評価
• 薄膜化プロセスにより実現した室温で安定な螢石型酸化ビスマスの作製

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