中西 洋一郎 | 静岡大学大学院工学研究科電子工学

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概要

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• 静岡大学大学院工学研究科電子工学の論文著者

関連著者

• 中西 洋一郎

  静岡大学大学院工学研究科電子工学

• 畑中 義式

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 青木 徹

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 小南 裕子

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 小南 裕子

  静岡大学大学院工学研究科

• 野田 大二

  静岡大学電子工学研究所

• 野田 大ニ

  静岡大学大学院電子科学研究科電子応用工学専攻画像電子デバイス講座

• 野田 大二

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 中西 洋一郎

  静岡大学

• 青木 徹

  静岡大学電子工学研究所

• 森田 元彦

  Central Electrochemical Research Institute

• 森田 元彦

  静岡大学電子工学研究所

• 徐 應瑜

  静岡大学大学院電子科学研究科

• Rao M

  Shizuoka Univ. Hamamatsu Jpn

• 村松 隆広

  静岡大学電子工学研究所

• 村松 隆広

  静岡大学 電子工学研究所

• 佐野 慶一郎

  スズキ(株) 技術本部開発第二部

• 三宅 亜紀

  静岡大学電子科学研究科

• 中村 高遠

  静岡大学工学部

• 東 直人

  静岡大学工学部

• 三宅 亜紀

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 山本 浩由

  静岡大学 電子工学研究所

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo Jpn

• 野村 雅也

  スズキ(株) 技術本部開発第二部

• 畑中 義則

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 堀河 敬司

  静岡大学電子工学研究所

• 東 直人

  静岡大学地域共同研究センター

• Nakamura Tomohiko

  The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University

• 山本 浩由

  静岡大学電子工学研究所

• 青木 祥和

  静岡大学電子工学研究所

• Nakamura Takuya

  The Faculty Of Engineering Saitama University

• Nakamura Tetsuro

  School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology

• Nakamura Tetsuro

  Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology

• Nakamura Toshihiko

  Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

• 徐 應瑜

  静岡大学 電子科学研究科

• 玉巻 宏章

  スズキ(株) 技術本部開発第二部

• 三宅 亜紀

  静岡大学大学院工学系研究科

• 栗田 誠

  静岡大学電子工学研究所

• 畑中 義式

  静岡大学電子工学研究所

• 中西 宏佳

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 中島 宏佳

  静岡大学電子科学研究科

• 島岡 五朗

  The University of New South Wales

• 中西 洋一郎

  静岡大

• 中村 高遠

  静大院理工

• Nakamura T

  Sumitomo Electric Industries Ltd.

• Ohno Morifumi

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

• Nakamura Tomoyuki

  Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation

• 玉巻 宏章

  スズキ(株)技術本部開発第二部

• 佐野 慶一郎

  スズキ株式会社開発第二部

• 玉巻 宏章

  スズキ株式会社開発第二部

• 野村 雅也

  スズキ株式会社開発第二部

• Nakamura Tetsuro

  Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology

• 大野 守史

  沖セミコンダクター(株)

• Nakamura T

  Hokkaido Univ. Sapporo

• Ohno Morifumi

  Semiconductor Technology Laboratory Oki Electric Industry Co. Ltd.

• 大野 守史

  静岡大学電子工学研究所

• 大野 守史

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 島岡 五朗

  静岡大学大学院電子科学研究科

• 大野 守史

  (株) ソルテック

• 荻島 拓哉

  静岡大学電子工学研究所

• 荻島 拓哉

  静岡大学大学院電子科学研究科, 電子工学研究所

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著作論文

• 25-2 多元蒸着法による緑色発光SrGa_2S_4:Eu薄膜の作製
• Si基板上エピタキシャルZnO薄膜の成長と励起子発光特性
• Si基板上エピタキシャルZnO薄膜の成長と励起子発光特性
• 水素ラジカル励起MOCVD法によるZnSeの成長
• 水素ラジカル励起MOCVD法によるZnSeのエピタキシャル成長
• 水素ラジカル励起MOCVD法によるZnSeのエピタキシャル成長
• ECRプラズマCVDによるプラスチック上へのSiC薄膜の低温形成
• ECRプラズマCVDによるプラスチック上へのSiC薄膜の形成
• 18-1 低速電子線励起時における蛍光体表面の電位変化
• 4-5 低速電子線励起における蛍光体の発光特性の改善
• エキシマレーザーによるZnSeへの高濃度p型ドーピング
• エキシマレーザーによるZnSeへの高濃度p型ドーピング
• リモートプラズマMOCVDによるCdZnTeのエピタキシャル成長とドーピング法
• リモートプラズマMOCVDによるCdZnTeのエピタキシャル成長とドーピング法
• MOCVD法におけるZnTeへのラジカル窒素ドーピング
• セレン化亜鉛結晶への高濃度ヨウ素添加
• 多機能ディスプレイの動向 : 高臨場感ディスプレイとFED用新電子源について(年報ズームアップ)
• S15. 無機EL : フルカラー化に向けての研究動向
• 2)第3回蛍光体国際会議概要(情報ディスプレイ研究会)
• 有機シリコン材料を用いたリモートプラズマCVD法によるSiC薄膜の低温成長
• 有機シリコン材料を用いたリモートプラズマCVD法によるSiC薄膜の低温成長
• 有機シリコン材料を用いたリモートプラズマCVD法によるSiC薄膜の低温成長
• 多元蒸着法により作製したSrGa_2S_4:Ce薄膜の青色発光特性
• 総論 多彩な固体発光材料の世界(光に関わる材料の世界 その1 : 多彩な固体発光材料の世界)
• 多機能ディスプレイ研究調査委員会
• GaP単結晶表面構造のRHEED観察
• リモートプラズマCVD法による有機ゲルマニウムからのゲルマニウム結晶性薄膜の形成

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