佐野 慶一郎 | スズキ(株) 技術本部開発第二部

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関連著者

• 佐野 慶一郎

  スズキ(株) 技術本部開発第二部

• 野村 雅也

  スズキ(株) 技術本部開発第二部

• 玉巻 宏章

  スズキ(株) 技術本部開発第二部

• 玉巻 宏章

  スズキ(株)技術本部開発第二部

• 畑中 義式

  静岡大学電子工学研究所

• 中西 洋一郎

  静岡大学電子工学研究所

• 中西 洋一郎

  静岡大学大学院工学研究科電子工学

• 畑中 義式

  静岡大学大学院電子科学研究科

• ウィクラマナヤカ スニル

  静岡大学電子工学研究所

• スニル ウィクラマナヤカ

  静岡大学 電子工学研究所

• 林 成和

  スズキ(株)開発第二部

• 青木 徹

  静岡大学電子工学研究所

• 稲垣 訓宏

  静岡大学工学部物質工学科

• 佐野 慶一郎

  スズキ株式会社開発第二部

• 玉巻 宏章

  スズキ株式会社開発第二部

• 野村 雅也

  スズキ株式会社開発第二部

• 稲垣 訓宏

  静岡大学工学部材料精密化学科

• 宮井 研二

  スズキ(株)開発第二部

• 稲垣 訓宏

  静岡大学工学部

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著作論文

• ECRプラズマCVDによるプラスチック材料への硬質SiC薄膜の低温形成 -第2報-
• ECRプラズマCVDによるプラスチック材料への硬質SiO_2薄膜の低温形成 -第3報-
• ECRプラズマCVDによるプラスチック材料への硬質SiC薄膜の低温形成 -第1報-
• ECRプラズマを利用したプラスチックへの薄膜形成について
• ECRプラズマCVDによるプラスチック上へのSiC薄膜の低温形成
• TEOS/O_2プラズマCVDによるプラスチック材料への硬質SiO_2薄膜の低温形成 -第二報-
• ECRプラズマCVDによるプラスチック上へのSiC薄膜の形成
• TEOS/O_2プラズマCVDによるプラスチック材料への硬質SiO_2薄膜の低温形成 -第1報-
• バンパの高分子成分におけるプラズマ処理の研究 -バンパの塗装前におけるプラズマ処理の応用-
• 真空技術と材料表面の高機能化

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