Properties of Ferroelectric Memory with Ir System Materials as Electrodes(Special Issue on Advanced Memory Devices Using High-ε and Ferroelectric Films)
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概要
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Pb(Zr_χTi_1-χ)O_3(PZT) thin films were prepared on various electrodes.When Ir system materials were used as electrodes, fatigue properties of PZT thin films were improved.Moreover, in the case of the PZT thin film on an Ir/IrO_2 electrode, not only fatigue but imprint properties were clearly improved.We could find these improvements were caused by good barrier effect of IrO_2 from secondary ion mass spectroscopy (SIMS) analysis.By applying these Ir system electrodes, we fabricated stacked capacitors on polycrystalline silicon (poly-Si) plugs.In spite of high temperature thermal processing, we found poly-Si plugs were ohmically connected with the bottom electrodes of the capacitors from hysteresis measurements and I-V characteristics, and could greatly expect them for practical use.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-04-25
著者
-
Izumi Naoki
Process Technology Div. Ulsi R&d Headquarters Rohm Co. Ltd.
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
-
中村 高遠
静大院理工
-
Nakamura Tomohiko
The Institute Of Scientific And Industrial Research Osaka University
-
Nakamura Tomoyuki
Fine Chemicals And Polymers Research Laboratory Nof Corporation
-
FUJIMORI Yoshikazu
The authors are with the Process Technology Div. ULSI Research and Development Headquaters, ROHM CO.
-
IZUMI Naoki
The authors are with the Process Technology Div. ULSI Research and Development Headquaters, ROHM CO.
-
NAKAMURA Takashi
The authores are with the Process Technology Div. ULSI Research and Development Headquaters, ROHM CO
-
KAMISAWA Akira
The authores are with the Process Technology Div. ULSI Research and Development Headquaters, ROHM CO
-
Nakamura Takuya
The Faculty Of Engineering Saitama University
-
Nakamura Tetsuro
School Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Tetsuro
Department Of Electrical Engineering And Electronics Toyohashi University Of Technology
-
Nakamura Toshihiko
Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
-
Nakamura T
Hokkaido Univ. Sapporo
-
Kamisawa A
Process Technology Div. Ulsi R&d Headquarters Rohm Co. Ltd.
-
Fujimori Y
Device Technology Div. Semiconductor Research And Development Headquarters Rohm Co. Ltd.
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