乾 靖彦 | 静岡大学工学部

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概要

• 同名の論文著者
• 静岡大学工学部の論文著者

関連著者

• 乾 靖彦

  静岡大学工学部

• 仲秋 勇

  静岡県静岡工業技術センタ

• 山口 十六夫

  静岡大学

• 斉藤 順雄

  高松工専

• 齋藤 順雄

  高松工業高等専門学校

• 斎藤 順雄

  静岡大学電子工学研究所

• 乾 靖彦

  静岡大学電子工学研究所

• 乾 靖彦

  静大電子研

• 山口 十六夫

  静岡大 電子工研

• 山口 十六夫

  静大電子研

• 斎藤 順雄

  宮崎大学

• 吉岡 捷爾

  香川大学

• 吉岡 捷爾

  高松工業高等専門学校電気工学科

• 中村 茂昭

  高松工業高等専門学校

• 山口 十六夫

  静岡大学電子工学研究所

• 仲秋 勇

  静岡県工技センタ

• 冨岡 雄吾

  新日本製鉄株式会社中央研究本部エレクトロニクス研究所

• 河村 和彦

  静岡理工科大学電子工学科

• 中村 茂昭[他]

  高松工専

• 吉岡 捷爾

  高松工業高等専門学校

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著作論文

• 窒素微量添加によるP-CVD a-SiC:H膜の光導電率の改善
• 複合ターゲット法によるGa添加a-SiC:H薄膜
• Co-sputter法によるAl及びIn添加a-SiC:H薄膜の作製と光学的特性
• Co-sputter法によるIn添加a-SiC : H薄膜の作製と諸特性
• プラズマ CVD 法により形成した a-SiCN:H 膜の電気的・光学的性質

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