SF_6を用いた高周波スパッタ法によるa-SiCS:H:F薄膜特性への高周波電力の効果
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概要
著者
-
岩田 弘
香川県産業技術センター
-
斎藤 順雄
宮崎大学
-
岩田 弘
香川高等専門学校機械工学科
-
仲秋 勇
静岡県静岡工業技術センタ
-
仲秋 勇
静岡県富士工業技術センタ
-
山口 十六夫
静岡大学
-
齋藤 順雄
高松工業高等専門学校
-
山口 十六夫
静岡大 電子工研
-
仲秋 勇
静岡県富士工技センタ
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