スパッタ法によるNi-Cr複合酸化物薄膜の作製と特性
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概要
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Thin films of Ni-Cr oxide were prepared by magnetron sputtering of NiO-Cr2O3 (1 : 1 mol ratio) target in a gas mixture of oxygen and argon. The dependence of the partial pressure ratio R of oxygen to the toal sputtering gas on the compositional, optical and electrical properties of the films was investigated from a standpoint of an application to the infrared sensor. With increasing R, the Ni(220) peak of XRD increases, the optical bandgap decreases and the dc conductivity σ as well as the thermistor coefficient Bth increases. It is found that a set of relatively high values of σ and Bth for the infrared sensor is obtained in the range of R around 10%.
- 日本真空協会の論文
- 2006-07-20
著者
-
岩田 弘
香川県産業技術センター
-
杉山 治
静岡県富士工業技術センター
-
斎藤 順雄
宮崎大学
-
岩田 弘
香川高等専門学校機械工学科
-
仲秋 勇
静岡県静岡工業技術センタ
-
仲秋 勇
静岡県富士工業技術センタ
-
齋藤 順雄
高松工業高等専門学校
-
杉山 治
静岡県静岡工業技術センタ
-
仲秋 勇
静岡県富士工技センタ
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