マグネトロンスパッタ法によって作製したSi系水素化非晶質半導体薄膜の特性
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概要
著者
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山田 武志
イビデン株式会社
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仲秋 勇
静岡県静岡工業技術センタ
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山口 十六夫
静岡大学
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仲秋 勇
静岡県工業技術センター
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三宮 仁
シャープ株式会社中央研究所
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田中 孝彦
静岡県工業技術センター
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山口 十六夫
静岡大 電子工研
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