低誘電率(low-k)層間絶縁膜の光学特性
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概要
著者
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山口 十六夫
静岡大学
-
青山 満
静岡大学電子工学研究所技術部
-
Postava K
Technical Univ. Ostrava Ostrava‐poruba Cze
-
山口 十六夫
静岡大 電子工研
-
Postava K
Research Institute Of Electronics Shizuoka University:department Of Physics Technical University Ost
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