メタンとフッ化硫黄を用いたマグネトロンスパッタ法によって作製したa-SiCS:H:F薄膜
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概要
著者
-
斎藤 順雄
宮崎大学
-
岩田 弘
香川高等専門学校機械工学科
-
吉岡 捷爾
香川大学
-
仲秋 勇
静岡県静岡工業技術センタ
-
山口 十六夫
静岡大学
-
岩田 弘
香川県工技センタ
-
齋藤 順雄
高松工業高等専門学校
-
山口 十六夫
静岡大 電子工研
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