田中 孝彦 | 静岡県工業技術センター

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概要

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関連著者

• 仲秋 勇

  静岡県工業技術センター

• 田中 孝彦

  静岡県工業技術センター

• 仲秋 勇

  静岡県静岡工業技術センタ

• 斎藤 順雄

  静岡大学電子工学研究所

• 山田 武志

  イビデン株式会社

• 山口 十六夫

  静岡大学

• 山口 十六夫

  静岡大学電子工学研究所

• 三宮 仁

  シャープ株式会社中央研究所

• 山口 十六夫

  静岡大 電子工研

• 吉田 和敏

  (株) 小糸製作所

• 吉田 和敏

  (株)小糸製作所

• 山田 武志

  静岡大学電子工学研究所

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著作論文

• マグネトロンスパッタ法によって作製したSi系水素化非晶質半導体薄膜の特性
• プラズマCVD法 a-Si1-xCx : H膜の導電率のアニール特性
• プラズマCVD法により形成したa-SiC:H膜の基板温度依存性
• マグネトロンスパッタ法によって作製したアモルファスSiC:Hの光学的,電気的特性

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