ガスアトマイズ粉及びその粉砕粉の放電焼結により得られたp型,n型Si-Ge緻密体の無電特性
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概要
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Both p- and n-type Si_<0.8>Ge_<0.2> powders were prepared by gas atomization of a mixture of Si and Ge with the addition of B or P. A part of the gas-atomized powders was further pulverized by ball-milling for 10 h in Ar. Then, dense bodies were formed from both the as-atomized and pulverized powders by pulse-current sintering. The thermoelectric properties such as the thermal conductivity, electric resistivity and Seebeck coefficient of the dense bodies were determined from room temperature to 1073 K, followed by the evaluation of the figure of merit (ZT). The thermal conductivities of p- and n-type fine-grained Si-Ge from pulverized powders were 8 and 10% lower on average in the temperature range of 300-1073 K, respectively, than those of the as-atomized powders. However, this phenomenon was accompanied with an increase in electric resistivity due to the reduced grain size and increased oxygen content, resulting in the decrease in Zt by 13 and 8% for p- and n-type Si-Ge, respectively. The ZT of n-type Si-Ge exceeded that of p-type because of the high Seebeck coefficient of n-type samples. Finally, the largest ZT1 value of 0.66 was obtained for the Si-Ge dense body from n-type gas-atomized powder. It was found that the application of the gas-atomized powder for fabricating Si-Ge sintered body has the advantage of the reduction in oxygen content and resistivity com-pared to the case of the pulverized powders.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 2003-12-01
著者
-
杉山 治
静岡県富士工業技術センター
-
金子 正治
静岡大学工学部物質工学科
-
大竹 正寿
静岡県浜松工業技術センター
-
佐藤 憲治
静岡県浜松工業技術センター
-
佐藤 憲治
静岡県工業技術研究所浜松工業技術支援センター
-
杉山 治
静岡県静岡工業技術センタ
-
金子 正治
静岡大学工学部
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