金子 正治 | 静岡大学工学部物質工学科
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概要
関連著者
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金子 正治
静岡大学工学部物質工学科
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金子 正治
静岡大学工学部
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金子 正治
同工学部物質工学科
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杉山 治
静岡県富士工業技術センター
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杉山 治
静岡県静岡工業技術センタ
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大竹 正寿
静岡県浜松工業技術センター
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奥谷 昌之
静岡大学工学部物質工学科
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佐藤 憲治
静岡県浜松工業技術センター
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佐藤 憲治
静岡県工業技術研究所浜松工業技術支援センター
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加藤 和昭
富士セラミックス
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大隅 秀三
富士セラミックス
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杉山 治
静岡県静岡工業技術センター
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斎藤 昭三
静岡県静岡工業技術センター
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小杉 津代志
静岡大学大学院電子科学研究科
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村上 健司
静岡大学電子工学研究所
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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鈴木 久男
静岡大学工学部物質工学科
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昆野 昭則
静岡大学工学部物質工学科
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藤原 武
東京工業大学応用セラミックス研究所
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村上 健司
静岡大電子研
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奥谷 昌之
静岡大工
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金子 正治
静岡大工
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加藤 和昭
(株)富士セラミックス
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大隈 秀三
(株)富士セラミックス
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村上 健司
静岡大学大学院電子工学研究所
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金子 正治
静岡大学大学院工学部物質工学科
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村上 健司
同電子工学研究所
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鈴木 久男
静岡大 創造科学技術大学院
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昆野 昭則
静岡大学工学部
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鈴木 久男
静岡大学工学部:静岡大学大学院
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鈴木 久男
静岡大学工学部
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高山 昭夫
静岡大学工学部物質工学科
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本多 徹
美濃窯業(株)技術研究所
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本多 徹
美濃窯業(株)
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桑原 啓至
静岡県静岡工業技術センター
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福井 博志
静岡大学工学部物質工学科
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クマラ G.
静岡大学工学部物質工学科
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アソカクマラ G.
静岡大学工学部物質工学科
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近藤 和匡
静岡大学工学部物質工学科
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平野 富夫
静岡大学工学部物質工学科
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吉見 靖隆
静岡大学工学部物質工学科
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中嶋 清文
静岡大工
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藤原 武
静岡大工
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杉山 治
静岡工技セ
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斎藤 昭三
静岡工技セ
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中島 清文
静岡大
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小杉 津代志
静岡大
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赤堀 篤
静岡県静岡工業技術センター
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熊 茂仁
華南理工大学無機材料科学科
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杉山 進
静岡大学工学部材料精密化学科
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信原 一敬
富士シリシア化学(株)
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馬塚 尚人
静岡大学工学部材料精密化学科
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山田 保
日星電気(株)
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大竹 正寿
静岡県静岡工業技術センター
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大隅 秀三
(株)富士セラミックス
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福島 利博
(株)富士セラミックス
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西村 博睦
静岡大学工学部物質工学科
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厖 蘂
静岡大学工学部材料精密化学科
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董 敦灼
静岡大学大学院電子化学研究所
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西山 拓男
静岡大学工学部
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八木 績
静岡県大学大学院電子科学研究科
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柿沢 勝利
(株)河合楽器製作所
著作論文
- 低温焼結Pb(Zr,Ti)O_3セラミックスの焼結条件と圧電特性
- p-n多層型Si-Ge熱電素子の作製及び出力評価
- 金属酸化物混合電極による色素増感太陽電池の高効率化
- ガスアトマイズ粉及びその粉砕粉の放電焼結により得られたp型,n型Si-Ge緻密体の無電特性
- MgO-Fe_2O_3 2成分系の高MgO領域におけるMgOssとMgFe_2O_4の2相共存
- 溶融体のガスアトマイズより作製されたSi-Ge粉体の焼結性に及ぼすボールミル効果
- 擬固体色素増感太陽電池
- p-n接合シリコン-ゲルマニウムにおけるドーパント移動のXPS分析
- スプレー熱分解法によるNiZnフェライト薄膜の作製とその特性
- スプレー熱分解法による二硫化銅インジウム薄膜の形成
- スプレー熱分解法による酸化チタン薄膜の形成と色素増感太陽電池への応用
- PTシード層を用いたCSD法PLZT薄膜の低温形成と配向制御
- 3E07 スプレー熱分解法により形成された酸化すず薄膜の初期形成過程
- 2I02 X 線光電子分光法による Pb(Zr, Ti)O_3 セラミックスの表面分析
- チタン酸ジルコン酸鉛セラミックス結晶相のX線光電子分光分析
- 1I18 スプレー熱分解 (SPD) 法による配向性酸化すず薄膜の初期形成過程
- Si-及びAl-アルコキシドによるアルミナ繊維の表面化学修飾と加熱変化
- スプレー熱分解法による太陽電池を目指した化合物半導体薄膜の形成
- ディップコーティング法によるナフテン酸塩からのMn系酸化物薄膜の調製
- スプレー熱分解法による太陽電池を目指した化合物半導体薄膜の形成
- スプレー熱分解法による太陽電池を目指した化合物半導体薄膜の形成
- ガラスカプセルHIP法によるPb(ZR,Ti)O_3系セラミックスの改質と焦電特性
- コロイド熟成法による立方状含水酸化チタン微粒子の生成と粒径制御
- 電子顕微鏡法による反応焼結窒化珪素の生成過程の解析
- 複合酸化物を添加した低温焼結 PZT セラミックスの圧電特性
- シリカゲル表面へのチタニア及びジルコニアコートとNH_3のTPD
- スプレー熱分解法によりトリブチルスズアセテートから作製したSnO_2膜の配向性