イオンビームスパッタリング法によるITO薄膜の低温成膜におけるイオンビーム照射効果
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概要
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イオンビームスパッタリング法による成膜において, 成長中の薄膜表面にO_2とHeの混合ガスによるアシストイオンビームを照射することによって, ITO薄膜の低温成膜を試みた.薄膜の物性を調べるために, 透過率測定, van der Pauw法によるホール移動度・キャリヤ密度の測定を行った.また, 微視組織を調べるために薄膜表面のSEM観察, 原子的な構造を調べるためにX線回折測定を行った.その結果, このアシストイオンビームの照射により透過率の改善が行えることを見出した.また, ビーム電圧による, 薄膜物性および原子的な構造の変化と, 両者の関係について示した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-07-25
著者
-
須崎 嘉文
香川大学工学部
-
中村 茂昭
高松工業高等専門学校
-
須崎 嘉文
高松工業高等専門学校高機能化技術教育研究センター
-
樋口 弘志
高松工業高等専門学校電気工学科
-
鹿間 共一
高松工業高等専門学校
-
田中 治
大倉工業株式会社
-
田中 治
大倉工業(株)研究所
-
中村 茂昭
高松工業高等専門学校高機能化技術教育研究センター
-
鹿間 共一
高松高専
-
須崎 嘉文
香川大学
-
鹿間 共一
高松工業高等専門学校高機能化技術教育研究センター
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