Co-sputter法によるa-SixCyAlz:H薄膜の作製と特性 (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
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概要
著者
-
中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
-
山口 十六夫
静岡大学電子工学研究所
-
斎藤 順雄
静岡大学電子工学研究所
-
冨岡 雄吾
静岡大学電子工学研究所
-
河村 和彦
新日本製鉄株式会社 エレクトロニクス研究所
-
河村 和彦
新日本製鉄株式会社中央研究本部第一技術研究所
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