アルキルシラン単一原料を用いた原子状水素励起化学気相堆積
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概要
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ヘキサメチルジシラン及びテトラキストリメチルシリルシランを原料として水素原子励起化学気相堆積法によって、水素化アモルファスシリコンカーボン膜を作製し、水素ラジカルによる原料有機シリコンの分解反応課程の研究を行った。また、得られた薄膜のの特性が、赤外分光法、オージェ電子分光法、エリプソメトリ法、等により化学的構成、成分構成、均一性、光学的特性において、検討された。
- 1996-11-01
著者
-
中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
-
畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
-
Wickramanayaka Sunil
静岡大 電子工研
-
Wickramanayaka S
Anelva Corporation
-
Sunil Wickramanayaka
静岡大学電子工学研究所
-
Wrobel Aleksander
Polish Academy Of Sciences Center Of Molecular And Macromolecular Sciences
-
Wrobel A.m.
Polish Academy Of Sciences Center Of Molecular And Macromolecular Studies
-
Wickramanayaka Sunil
静岡大学電子工学研究所
-
Wickramanayaka Sunil
Anelva Corporation Head Office
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