レーザアニールによるSrGa_2S_4:Eu^<2+>薄膜蛍光体作製プロセスの低温化
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概要
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- 2009-01-29
著者
-
山崎 貴久
静岡大学
-
清野 俊明
日本製鋼所
-
小南 裕子
静岡大学
-
畑中 義式
愛知工科大学
-
原 和彦
静岡大学
-
小南 裕子
静岡大学電子工学研究所
-
中西 洋一郎
静岡大学電子工学研究所
-
小南 裕子
静岡大学 電子工学研究所
-
寺田 享右
静岡大学電子工学研究所
-
山崎 貴久
静岡大学電子工学研究所
-
畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
-
畑中 義式
静岡大
-
中西 洋一郎
静岡大学 電子科学研究科
-
原 和彦
静岡大学 電子工学研究所
-
寺田 享右
静岡大学 電子工学研究所
-
山崎 貴久
静岡大学 電子工学研究所
-
中西 洋一郎
静大電子研
-
Nakanishi Yoshiki
Department Of Materials Science And Engineering Iwate University
-
畑中 義式
浜松ホトニクスKK静岡大学電子工学研究所
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